TEOS/O<SUB>3</SUB>常圧CVD反応解析と装置開発
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概要
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TEOSとO<SUB>3</SUB>を用いた常圧CVD装置では白粉が生じ易く, 排気パイプの閉塞やウエハ上の異物付着が実用上大きな問題になる.そこで本報では, 円筒型シャワーヘッドを同心円状の内外二重チャンバーに分割し, 内筒からはTEOS/O<SUB>3</SUB>の混合気を, 外筒からはN<SUB>2</SUB>ガスのみを供給する二重ヘッド構造を考えた.簡単化した反応モデルを用いたCVD反応シミュレーションを行い, 内筒半径はウエハ半径より20mm程度小さい値が最適 (6 “-10” ウエハに対して) であることを明らかにし, 試作ヘッドを用いた成膜実験で確認した.さらに, 今回の検討結果をもとにCVD装置を製作し, 連続成膜により500枚以上のウエハ処理を実現するとともに, さらに良好なデバイス適用性を得た.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
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川原 孝昭
三菱電機 先端技総研
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結城 昭正
三菱電機 先端技総研
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松井 安次
三菱電機 Ulsi開研
-
番条 敏信
三菱電機 北伊丹製作所
-
蔦原 晃一郎
三菱電機 北伊丹製作所
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番條 敏信
三菱電機 (株) 北伊丹製作所
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川原 孝昭
三菱電機 (株) 中央研究所
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川原 孝昭
三菱電機 (株) 半導体基礎研究所
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結城 昭正
三菱電機 (株) 中央研究所
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結城 昭正
三菱電機 (株) 半導体基礎研究所
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蔦原 晃一郎
三菱電機 (株) 北伊丹製作所
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松井 安次
三菱電機 (株) 中央研究所
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松井 安次
三菱電機 (株) 半導体基礎研究所
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