枚葉型SiH<SUB>4</SUB>/O<SUB>2</SUB>常圧CVD装置の開発
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概要
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SiH<SUB>4</SUB>/O<SUB>2</SUB>常圧CVDの成膜機構ならびに副生物である微粒子の運動について検討し, これらを制御することにより, 面内均一性ならびにメンテナンス特性に優れた枚葉型常圧CVD装置を開発した.<BR>まず, 成膜機構に関しては, ウエハ表面近傍のガス組成と膜堆積量の表面積依存性から, 成膜速度が拡散律速状態にあることが確認された.これより, 反応チャンバ内の半径方向ガス流による圧力分布とガスヘッド吹き出し孔の圧損を最適化することにより, 原料ガス吹き出し速度を均一化し, 8インチウエハ面内での膜成長速度の均一性±3%が達成された.<BR>さらに, 成膜中の反応チャンバの観察から, ウエハ表面近傍に安定した反応層が形成され, 微粒子が生成されていることが確認された.微粒子が, 加熱されたウエハには付着せず常温の壁面に多量に付着することから, 微粒子の運動が熱泳動の影響を強く受けることが明らかになり, 排気路を加熱することにより, 微粒子の反応室内壁への付着を抑制し, 必要なメンテナンス頻度を低減出来ることが明らかになった.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
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川原 孝昭
三菱電機 先端技総研
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結城 昭正
三菱電機 先端技総研
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番条 敏信
三菱電機 北伊丹製作所
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蔦原 晃一郎
三菱電機 北伊丹製作所
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番條 敏信
三菱電機 (株) 北伊丹製作所
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坂本 研一郎
三菱電機 (株) 福岡製作所
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山口 徹
三菱電機 (株) 北伊丹製作所
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川原 孝昭
三菱電機 (株) 中央研究所
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結城 昭正
三菱電機 (株) 中央研究所
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蔦原 晃一郎
三菱電機 (株) 北伊丹製作所
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