溶液気化CVD法による(Ba, Sr)TiO_3高誘電率薄膜形成
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概要
著者
-
結城 昭正
三菱電機(株)先端技術総合研究所開発戦略グループ
-
川原 孝昭
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
-
山向 幹雄
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
-
斧 高一
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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川原 孝昭
三菱電機
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山向 幹雄
三菱電機
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斧 高一
三菱電機
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結城 昭正
三菱電機
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結城 昭正
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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山向 幹雄
三菱電機 先端技術総合研究所
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結城 昭正
三菱電機 先端技術総合研究所
-
斧 高一
三菱電機 先端技術総合研究所
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結城 昭正
三菱電機 先端技総研
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