川原 孝昭 | 三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

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概要

• 同名の論文著者
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関連著者

• 川原 孝昭

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 結城 昭正

  三菱電機(株)先端技術総合研究所開発戦略グループ

• 山向 幹雄

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 斧 高一

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 川原 孝昭

  三菱電機

• 川原 孝昭

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 山向 幹雄

  三菱電機

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• 結城 昭正

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  三菱電機(株)先端技術総合研究所

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  三菱電機 先端技総研

• 黒岩 丈晴

  三菱電機株式会社 先端技術総合研究所

• 黒岩 丈晴

  三菱電機(株)

• 黒岩 丈晴

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 堀川 剛

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 芝野 照夫

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 蒔田 哲郎

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 大森 達夫

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 三上 登

  三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部

• 大森 達夫

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 堀川 剛

  三菱電機(株)

• 蒔田 哲郎

  三菱電機(株)京都製作所

• 芝野 照夫

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 三上 登

  三菱電機(株)

• 結城 昭正

  三菱電機(株)

• 堀川 剛

  三菱電機 先端技総研

• 山向 幹雄

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 結城 昭正

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 斧 高一

  三菱電機 先端技術総合研究所

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著作論文

• 高誘電率材料(Ba,Sr)TiO_3を用いた1G DRAM対応キャパシタ技術
• 高誘電率材料(Ba,Sr)TiO_3を用いた1G DRAM対応キャパシタ技術
• 溶液気化CVD法による(Ba, Sr)TiO_3高誘電率薄膜形成
• 高誘電率薄膜成膜技術

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