沖村 邦雄 | Tokai Univ. Kanagawa Jpn
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概要
関連著者
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沖村 邦雄
Tokai Univ. Kanagawa Jpn
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沖村 邦雄
東海大学電子工学科
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柴田 明
福井工業高等専門学校
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沖村 邦雄
福井工業高等専門学校
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前田 直宏
福井高専
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沖村 邦雄
福井高専
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柴田 明
福井高専
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橘 邦英
京都大学
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土田 耕三
福井県工業技術センター
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前田 直宏
福井工業高等専門学校
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橘 邦英
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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土田 耕三
福井県工技セ
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安丸 尚樹
福井工業高等専門学校 機械工学科
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前多 信博
福井工業高等専門学校
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橘 邦英
京都大学工学研究科
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北 一麻呂
福井工業高等専門学校電気工学科
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沖村 邦雄
東海大学工学部電子工学科
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堀井(前田) 直宏
福井工業高等専門学校
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佐治 栄治
福井県工業技術センター
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松原 覚衛
山口大学
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橘 邦英
京都工芸繊維大学
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松原 覚衛
山口大学工学部
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平井 恵子
物質工学科
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前多 信博
福井工専
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荒川 正和
福井工業高等専門学校
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荒川 正和
電気電子工学科
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平井 恵子
福井工業高等専門学校
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平井 恵子
福井工業高等専門学校一般科目教室・自然科学系
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堀井(前田) 直宏
福井工業高等専門学校電子情報工学科
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OKIMURA Kunio
Department of Electronics, Tokai University
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FURUMI Takahiro
Department of Electronics, Tokai University
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松原 覚衛
山口大学:日本熱電学会
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前多 信博
福井高専電気
著作論文
- TiO_2膜成長に与えるSi表面プラズマクリーニング効果
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマ化学蒸着法における気相での酸化分解過程
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマCVD法における気相分解過程
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマCVD法によって堆積したSiO_2膜の膜中不純物
- TiO_2薄膜堆積用RFマグネトロンスパッタプロセスの気相診断
- Tetraethyl Orthosilicate/N_2Oプラズマ化学蒸着によるSiO_2堆積過程の発光分光分析
- Al-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとペニング効果
- 反応性スパッタによる TiO_2 ルチル膜の低温成長
- イオンプレーティングにおけるAl-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとAlのイオン化率
- イオンプレーティング放電におけるプローブ測定法の開発
- 簡易計数システムによる福井県内の道路上での環境放射線測定
- オーステナイト系304ステンレス鋼への高耐食性TiO_2被覆
- X-ray Diffraction Study of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Film on Sapphire Substrate
- In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
- Preparation of VO2 Films with Metal-Insulator Transition on Sapphire and Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
- TiO_2被覆されたオーステナイト系304ステンレス鋼の機械的性質