In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2005-05-15
著者
-
沖村 邦雄
Tokai Univ. Kanagawa Jpn
-
OKIMURA Kunio
Department of Electronics, Tokai University
-
FURUMI Takahiro
Department of Electronics, Tokai University
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