イオンプレーティング放電におけるプローブ測定法の開発
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- TiO_2膜成長に与えるSi表面プラズマクリーニング効果
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマ化学蒸着法における気相での酸化分解過程
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマCVD法における気相分解過程
- Tetraethoxysilaneを用いたプラズマCVD法によって堆積したSiO_2膜の膜中不純物
- TiO_2薄膜堆積用RFマグネトロンスパッタプロセスの気相診断
- Tetraethyl Orthosilicate/N_2Oプラズマ化学蒸着によるSiO_2堆積過程の発光分光分析
- Al-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとペニング効果
- 反応性スパッタによる TiO_2 ルチル膜の低温成長
- イオンプレーティングにおけるAl-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとAlのイオン化率
- イオンプレーティング放電におけるプローブ測定法の開発
- 簡易計数システムによる福井県内の道路上での環境放射線測定
- イオン線吸収法による誘導結合プラズマ支援DCスパッタ中のTiイオン密度測定とイオン化機構の検討
- 誘導結合プラズマ支援マグネトロンスパッタにおける Ti 原子密度と Ti イオン密度測定
- チタンターゲットスパッタにおけるチタンイオンの分光測定
- 真空紫外光を用いた化学的気相成長法によってテキラエトキシシランを原料として堆積した薄膜の評価
- Xe_2エキシマーランプを用いた有機シリコン原料の気相における光分解
- オーステナイト系304ステンレス鋼への高耐食性TiO_2被覆
- サマリー・アブストラクト
- X-ray Diffraction Study of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Film on Sapphire Substrate
- In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
- Preparation of VO2 Films with Metal-Insulator Transition on Sapphire and Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
- TiO_2被覆されたオーステナイト系304ステンレス鋼の機械的性質