真空紫外光を用いた化学的気相成長法によってテキラエトキシシランを原料として堆積した薄膜の評価
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-12-20
著者
-
井上 昭浩
福井工業高等専門学校
-
沖村 邦雄
東海大学電子工学科
-
堀井 直宏
福井工業高等専門学校
-
堀井 直宏
福井工業高等専門学校 電子情報工学科
-
沖村 邦雄
東海大学情報理工学部
-
西端 裕樹
福井工業高等専門学校専攻科生産システム
-
井上 昭浩
福井工高専
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