5p-I-5 RF放電における分子の解離過程とプラズマ・パラメータ

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 1984-09-10

著者

• 橘 邦英

  京都大学

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

関連論文

• マイクロプラズマを構成要素とする新規デバイス検討
• マイクロプラズマによる電磁波メタマテリアル
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• らせん状導体とプラズマの複合体による動的メタマテリアル現象(II)
• らせん状導体とプラズマの複合体による動的メタマテリアル現象(I)
• 水面上及び水中気泡内放電における化学反応機構
• 2. 伝搬電磁波に対するプラズマの空間不連続効果の実験的検証 : 空間周期構造がもたらす機能性(プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 : 空間的・時間的デザインが拓く新機能)
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
• マイクロプラズマによる損失性周期構造中の電磁波伝播特性
• 金属板の2次元穴アレイとプラズマの複合体の異常電磁波応答
• マイクロプラズマとその2次元周期構造内を伝搬する電磁波の解析
• プラズマアレイのメタマテリアル効果を用いた電磁波の動的複素制御
• TiO_2薄膜堆積用RFマグネトロンスパッタプロセスの気相診断
• イオンプレーティングにおけるAl-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとAlのイオン化率
• 水銀アーク放電のサイズ効果 : 計算機シミュレーションによる解析
• ミ-散乱エリプソメトリ- -プラスマ中微粒子成長過程の新しいインプロセス計測法-
• 4p-W-1 微粒子プラズマに関する最近の話題
• プラズマCVDによるpoly-Si膜の低温形成過程のインプロセス偏光解析モニタリング
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 30a-B-5 Sr 共鳴線の希ガスによる衝突拡がり
• 4a-T-1 Sr共鳴線のXeガスによる衝突拡がり
• 22.HIDランププラズマの分光学的診断 : LIF法によるSc-Na系メタルハライドランプの添加物密度計測((2)光源・回路・放電現象(II) : HIDランプ関係・その他)
• 2-5 放電型ディスプレイにおける放電開始電圧の解析
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(II) : パルス放電の一次元シミュレーション
• カラーPDP用He-Xe気体放電のシミュレーション : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• ACPDPにおける壁電子の放出条件の理論的考察
• 顕微分光法によるPDP放電セルの動作特性解析
• 顕微分光法によるPDP放電セルの動作特性解析
• 顕微分光法によるPDPセル内の励起原子密度の時間空間測定(1) : 情報ディスプレイ
• 4-9 カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(III) : Xeの分子線発光の残光時間
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(I) : パルス放電の分光測定
• 非平衡低温プラズマと原子分子衝突
• 新しい照明科学の創成に向けて(今日の課題)
• プラズマが創る反応場の過去・現在・未来
• 光CVDのプロセスモデリングと薄膜形成への応用 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)
• 薄膜トランジスタ用多結晶シリコンの低温堆積過程
• SiF_4/SiH_4/H_2混合ガスRF放電プラズマCVDによるポリシリコン堆積過程のその場分光エリプソメトリー
• 放電セルの低電流領域における諸特性(その4) : VUV発光波形と考察
• レーザ分光・散乱法による計測(材料プラズマの計測 (2))
• プラズマプロセスの現状と将来(最新のプラズマプロセス技術)
• 27p-ZA-4 スオーム実験による稀ガスの電子衝突励起係数と励起断面積
• 1p-T-2 材料プロセス用反応性プラズマにおける原子・分子過程
• 5p-I-5 RF放電における分子の解離過程とプラズマ・パラメータ
• SiH4プラズマCVDにおける膜前駆ラジカル組成に関する研究
• ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察
• プラズマプロセスにおける気相・界面反応
• ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
• 形のないものに価値を求める
• 光工学と分光学-2-プラズマプロセスにおける分光計測
• 1p-CD-11 Srイオン共鳴線のすそ領域衝突拡がりと原子間相互作用(原子・分子,第41回年会)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク