戸塚 正裕 | 三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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概要
関連著者
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奥 友希
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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戸塚 正裕
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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國井 徹郎
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
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志賀 俊彦
三菱電機株式会社 高周波光素子事業統括部
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志賀 俊彦
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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國井 徹郎
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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国井 徹郎
三菱電機株式会社
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國井 徹郎
三菱電機株式会社
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加茂 宣卓
三菱電機株式会社
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宮國 晋一
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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宮国 晋一
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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宮國 晋一
三菱電機(株)光・マイクロ波デバイス開発研究所
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加茂 宣卓
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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加茂 宣卓
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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井上 晃
三菱電機株式会社情報技術総合研究所
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石川 高英
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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宮國 晋一
三菱電機株式会社 光・マイクロ波デバイス開発研究所
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北野 俊明
三菱電機株式会社光・マイクロ波デバイス開発研究所
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井上 晃
三菱電機株式会社 情報技術総合研究所
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井上 晃
三菱電機株式会社
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中野 博文
三菱電機株式会社 高周波光素子事業統括部
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中野 博文
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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南條 拓真
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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石川 高英
三菱電機株式会社
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中塚 茂典
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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松田 吉雄
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
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山本 佳嗣
三菱電機株式会社
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宮国 晋一
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
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山本 佳嗣
三菱電機 光・マイクロ波デバイス開発研究所
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大石 敏之
三菱電機株式会社
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松田 吉雄
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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松田 吉雄
三菱電機株式会社 システムlsi事業化推進センター
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大石 敏之
三菱電機(株)
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巳浪 裕之
三菱電機株式会社
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竹内 日出雄
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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島田 好治
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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巳浪 裕之
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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南條 拓真
三菱電機
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北野 俊明
三菱電機株式会社 高周波光デバイス製作所
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島田 好治
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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竹内 日出雄
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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宮國 晋一
三菱電機株式会社
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南條 拓真
三菱電機株式会社
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服部 亮
三菱電機
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天清 宗山
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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後藤 清毅
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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増田 淳
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
-
松村 英樹
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
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増田 淳
北陸先端大
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服部 亮
株式会社イオン工学研究所
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山本 佳嗣
三菱電機高周波光素子事業統括部
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天清 宗山
三菱電機株式会社
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石川 高美
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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後藤 清毅
三菱電機株式会社
著作論文
- Cat-CVD法で作製したSiN_x膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
- Cat-CVD法による表面パッシベーション膜を用いた高信頼度GaN HEMT(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
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- Cat-CVD法によるAlGaN/GaN HEMT表面のSiN膜パッシベーション(電子デバイスの信頼性と半導体表面・界面制御・評価)
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- C-10-3 Ka帯用高耐湿・高出力TaN/AuゲートpHEMT(C-10.電子デバイス,エレクトロニクス2)