服部 亮 | 三菱電機

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概要

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• 三菱電機の論文著者

関連著者

• 服部 亮

  三菱電機

• 渡辺 友勝

  三菱電機

• 炭谷 博昭

  三菱電機

• 大森 達夫

  三菱電機

• 三谷 武志

  TRC

• 服部 亮

  三菱電機(株)光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 中村 源四郎

  三菱電機(株)光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 坂谷 忠夫

  理学電機(株)X線研究所

• 渡辺 友勝

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 野中 源一郎

  九州大学薬学部

• 金井 直樹

  北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科

• 奥 友希

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 松村 英樹

  北陸先端科学技術大学院大学

• 石原 理

  三菱電機株式会社光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 増田 淳

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所

• 佐藤 和彦

  三菱電機 光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 松村 英樹

  北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科

• 増田 淳

  国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科

• 松村 英樹

  国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科

• 増田 淳

  北陸先端大

• 戸塚 正裕

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 服部 亮

  株式会社イオン工学研究所

• 北村 孝子

  三菱電機

• 石原 理

  三菱電機

• 佐藤 和彦

  三菱電機

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著作論文

• SiC結晶のイオン注入活性化アニール過程における結晶回復と点欠陥の再配置
• SiC結晶のイオン注入活性化アニール過程における結晶回復と点欠陥の再配置(パワーエレクトロニクス及び半導体電力変換一般)
• Cat-CVD法で作製したSiN_x膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
• X線反射干渉解析法による化合物半導体ヘテロ界面、金属半導体界面の分析
• X線反射干渉解析法による化合物半導体ヘテロ界面、金属半導体界面の分析
• WSi/GaAsショットキー接合界面のキャリア捕獲とFET特性との関係

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