大森 達夫 | 三菱電機

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• 服部 亮

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• 西川 和康

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• 大寺 廣樹

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著作論文

• SiC結晶のイオン注入活性化アニール過程における結晶回復と点欠陥の再配置
• SiC結晶のイオン注入活性化アニール過程における結晶回復と点欠陥の再配置(パワーエレクトロニクス及び半導体電力変換一般)
• SICパワーデバイスの技術及び特徴に関する主な研究結果について
• ECR放電を用いたCl_2プラズマによるSiエッチング : プラズマ診断とエッチング機構

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