新井 裕子 | (株)日本製鋼所
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概要
関連著者
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新井 裕子
(株)日本製鋼所
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新井 裕子
静岡大学 電子工学研究所
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畑中 義式
愛知工科大学
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小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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清野 俊明
日本製鋼所
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新井 裕子
静岡大学電子工学研究所
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清野 俊明
(株)日本製鋼所
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畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
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畑中 義式
静岡大
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井和丸 昌
静岡大学電子工学研究所
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曽和 国容
デンソー工業技術短期大学校
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畑中 義式
浜松ホトニクスKK静岡大学電子工学研究所
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原 和彦
静岡大学
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原 和彦
静岡大学電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
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原川 崇
静岡大学電子工学研究所
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原 和彦
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静大電子研
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曽和 国容[他]
デンソー工業技術短期大学校
著作論文
- 二元電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Eu薄膜のレーザアニール過程の解析(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- SrGa_2S_4:Eu薄膜蛍光体のレーザアニール処理と電子線励起発光特性 : プロセスの低温化とその効果(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 二元電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Eu薄膜のレーザアニール過程の解析
- SrGa_2S_4:Eu薄膜蛍光体のレーザアニール処理と電子線励起発光特性 : プロセスの低温化とその効果
- SrGa2S4:Eu薄膜蛍光体のレーザアニール処理と電子線励起発光特性--プロセスの低温化とその効果 (情報ディスプレイ)
- SrGa_2S_4:Eu蛍光体薄膜の発光特性のEu濃度依存性
- SrGa_2S_4:Eu蛍光体薄膜の発光特性のEu濃度依存性
- SrGa_2S_4:Eu蛍光体薄膜の発光特性のEu濃度依存性(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 二元電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4薄膜蛍光体の発光特性(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 二源電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Eu薄膜の低速電子線励起発光特性
- 二源電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Eu薄膜の低速電子線励起発光特性
- 二源電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Eu薄膜の低速電子線励起発光特性(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- ニ源電子ビーム蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Eu薄膜の発光特性