熱フィラメントCVD装置を用いたSi基板表面へのSiC形成
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概要
著者
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黒須 楯生
東海大
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春田 憲一
東海大学大学院総合理工学研究科
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木村 英樹
東海大学大学院総合理工学研究科
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黒須 楯生
東海大学大学院総合理工学研究科
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黒須 楯生
東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科
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