G040044 新対向ターゲット式スパッタ法(NFTS)を用いたコンビナトリアル成膜([G04004]機械材料・材料加工部門一般セッション(4))

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概要

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• The combinatorial deposition gives the desired material exploration more efficiently to have samples having various compositions. The combinatorial deposition with New Facing Targets Sputtering (NFTS) is useful to create the new materials. The new method of the material exploration is offered in this research. It took a survey of the change of the composition distribution with that of the depositing conditions in NFTS; the output power applied to the target material, Ar pressure in the apparatus, TS distance. In this process, the samples with gradient compositions were made and measured composition distribution. The change in the output power resulted in that of the composition range. The gradient composition is influenced a great deal by the changes in Ar pressure and TS distance.

• 2011-09-11

著者

• 桜井 淳平

  東工大精研

• 渡辺 茂高

  東京工業大学

• 渡辺 茂高

  東京工業大学:キャノン電子(株)

• 秦 誠一

  東京工業大学

• 桜井 淳平

  東京工業大学大学院

• 中光 豊

  株式会社エフ・ティ・エスコーポレーション

• 森 直哉

  東京工業大学精密工学研究所

• 渡辺 茂高

  東京工業大学精密工学研究所

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