青色半導体レーザを用いたラインビーム生成(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般)
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概要
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本論文では、光強度が均一なビームサイズ10μm×1,000μm,波長445nmの青色ラインビーム生成方法を提案する.光源には20台の半導体LDを、LD光の合成,光強度分布均一化にはロッドインテグレータとして平面導波路を適用した.光強度分布を均一にするため、平面導波路内に屈折率の異なる領域を付与したところ、その光強度分布はPV率(Peak to Valley率)で15%となった.
- 2011-04-15
著者
-
井上 享
住友電気工業株式会社
-
蟹江 智彦
住友電気工業株式会社 光通信研究所
-
高橋 健一郎
住友電気工業株式会社
-
井上 享
住友電気工業(株)光通信研究所
-
島川 修
住友電気工業株式会社 光通信研究所
-
蟹江 智彦
住友電気工業
-
高橋 健一郎
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
蟹江 智彦
住友電気工業株式会社
-
島川 修
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
井上 亨
住友電気工業株式会社
-
井上 享
住友電気工業(株)横浜研究所
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