平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
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概要
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ブラッググレーティング導波路を複屈折を生ずることなく形成するための新たな設計方法について説明する.この方法では,導波路コアの上部に薄い溝が形成され,その溝の幅が導波路の幅と同時並行して変調される.差分化した逆散乱アルゴリズムに基づいて,ブラッググレーティング導波路の実効屈折率プロファイルを求め,さらに,上記の新規設計のコア形状を用いて,実効屈折率分布を導波路の幅のプロファイルに変換する.この手順により,平面基板上に形成する非複屈折性ブラッググレーティング導波路を設計することが可能となる.本手法を波長分散補償器の設計に適用する.
- 2009-12-11
著者
-
佐久間 健
株式会社フジクラ
-
佐久間 健
富士通LSIソリューション株式会社
-
官 寧
株式会社フジクラ
-
佐久間 健
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
小川 憲介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
五井 一宏
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
Tan Yong
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
Yu Ming-Bin
Institute of Microelectronics
-
Teo Selin
Institute of Microelectronics
-
Lo Guo-Qiaong
Institute of Microelectronics
-
Kwong Dim-Lee
Institute of Microelectronics
-
五井 一宏
株式会社フジクラ
-
Lo Guo-Qiang
Institute of Microelectronics
-
小川 憲介
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
五井 一宏
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
Tan Yong-tsong
株式会社フジクラ
-
Mingbin Yu
Institute Of Microelectronics Singapore
-
Lo Guo-qiang
Institute Of Microelectronics Singapore
-
Kwong Dim-lee
Institute Of Microelectronics Singapore
-
佐久間 健
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
小川 憲介
株式会社フジクラ
-
官 寧
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
Tan Yong-tsong
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
小川 憲介
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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