Work Function Modulation Using Thin Interdiffused Metal Layers for Dual Metal-Gate Technology
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2006-09-13
著者
-
Kwong Dim-Lee
Institute of Microelectronics
-
Wang Xin-peng
Dept. Of Electrical & Computer Engineering National University Of Singapore
-
Yeo Yee-chia
Dept. Of Electrical & Computer Engineering National University Of Singapore
-
LIM Andy
Dept. of Electrical & Computer Engineering, National University of Singapore
-
HWANG Wan-Sik
Dept. of Electrical & Computer Engineering, National University of Singapore
-
Hwang Wan-sik
Dept. Of Electrical & Computer Engineering National University Of Singapore
-
Lim Andy
Dept. Of Electrical & Computer Engineering National University Of Singapore
関連論文
- 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法 (光エレクトロニクス)
- フォトニック結晶導波路のためのモードフィールド変換器の設計と評価(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般(OFC報告))
- 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- C-3-13 ブラッググレーティングに適した偏波無依存型導波路の設計(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-81 シリコン・ナノフォトニックデバイス(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- Dopant Segregated Pt-Germanide Schottky S/D p-MOSFET with HfO_2/TaN gate on Strained Si-SiGe channel
- Effectiveness of Aluminum Incorporation in Nickel Silicide and Nickel Germanide Metal Gates for Work Function Reduction
- Work Function Modulation Using Thin Interdiffused Metal Layers for Dual Metal-Gate Technology
- C-3-48 消光比10dBを有する10G用MZ型シリコン光変調器(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-58 シリコンMZ変調器による20Gbps二値位相変調(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-41 20-32Gbps低損失MZシリコン変調器(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 10Gbps高消光比MZ型シリコン光変調器(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般)
- Pt–Germanide Formed by Laser Annealing and Its Application for Schottky Source/Drain Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistor Integrated with TaN/Chemical Vapor Deposition HfO2/Ge Gate Stack
- Complementary Metal Oxide Semiconductor Compatible Hf-Based Resistive Random Access Memory with Ultralow Switching Current/Power
- 10Gbps高消光比MZ型シリコン光変調器
- Silicon Mach-Zehnder modulator using low-loss phase shifter with bottom PN junction formed by restricted-depth doping
- Characterization of Silicon Mach-Zehnder Modulator in 20-Gbps NRZ-BPSK Transmission
- シリコンマッハ-ツェンダ変調器による10Gb/s 80km光ファイバ伝送(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- シリコンマッハ-ツェンダ変調器による10Gb/s 80km光ファイバ伝送(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- シリコンマッハ-ツェンダ変調器による10Gb/s 80km光ファイバ伝送(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))