佐久間 健 | 株式会社フジクラ
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概要
関連著者
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佐久間 健
株式会社フジクラ
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佐久間 健
(株)フジクラ光電子技術研究所
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佐久間 健
富士通LSIソリューション株式会社
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佐久間 健
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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細谷 英行
(株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
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細谷 英行
株式会社フジクラ
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広崎 尚登
Nims
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廣崎 尚登
物質・材料研究機構
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広崎 尚登
独立行政法人物質・材料研究機構
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藤田 大吾
株式会社 フジクラ 光電子技術研究所
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佐久間 健
(株)フジクラ光通信研究部
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廣崎 尚登
独立行政法人物質・材料研究機構
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木村 直樹
株式会社フジクラ
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木村 直樹
(株)フジクラ光電子技術研究所
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小川 憲介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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五井 一宏
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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解 栄軍
物材機構
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解 栄軍
物質・材料研究機構物質研究所
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広崎 尚登
物質・材料研究機構
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福田 武司
(株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
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福田 武司
埼玉大
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Kwong Dim-Lee
Institute of Microelectronics
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五井 一宏
株式会社フジクラ
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小川 憲介
(株)フジクラ光電子技術研究所
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五井 一宏
(株)フジクラ光電子技術研究所
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福田 武司
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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石川 紫文
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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解 栄軍
物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター窒化物粒子グループ
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解 栄軍
物質・材料研究機構ナノセラミックスセンター
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解 栄軍
物質・材料研究機構
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小川 憲介
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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解 栄軍
産総研
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Yu Ming-Bin
Institute of Microelectronics
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Tan Yong-tsong
株式会社フジクラ
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Mingbin Yu
Institute Of Microelectronics Singapore
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Kwong Dim-lee
Institute Of Microelectronics Singapore
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藤田 大吾
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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浅野 健一郎
株式会社フジクラ
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広崎 尚登
(独)物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター
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官 寧
株式会社フジクラ
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Lo Guo-Qiang
Institute of Microelectronics
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Lo Guo-qiang
Institute Of Microelectronics Singapore
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藤井 朋子
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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小川 憲介
株式会社フジクラ
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官 寧
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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浅野 健一郎
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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Tan Yong-tsong
(株)フジクラ光電子技術研究所
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広崎 尚登
(独)物質・材料研究機構
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平船 俊一郎
株式会社フジクラ
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解 栄軍
(独)物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター
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細谷 英行
株式会社 フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部
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Tan Yong
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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Teo Selin
Institute of Microelectronics
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Lo Guo-Qiaong
Institute of Microelectronics
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佐久間 健
株式会社 フジクラ 光電子技術研究所
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Tan Yong-Tsong
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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田中 太一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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田中 大一郎
株式会社フジクラ
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四方 朋子
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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関口 利貞
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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平船 俊一郎
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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関口 利貞
フジクラ 光電子技研
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解 栄軍
(独)物質・材料研究機構
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玉木 康博
株式会社フジクラ
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広崎 尚登
物質・材料研究機構物質研究所
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石井 裕
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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三友 護
物質・材料研究機構物質研究所
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山本 吉信
物質・材料研究機構物質研究所
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末廣 隆之
物質・材料研究機構物質研究所
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山本 吉信
日産アーク
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瀧ヶ平 将人
(株)フジクラ光電子技術研究所
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解 栄軍
独立行政法人 物質・材料研究機構
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浅野 健一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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大道 浩児
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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官 寧
(株)フジクラ光電子技術研究所
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平船 俊一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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増子 幸一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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山田 重樹
横浜市立大学国際総合科学研究科
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大道 浩児
株式会社 フジクラ 光電子技術研究所
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Doan My-The
Institute of Microelectronics
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Teo Hwee-Gee
Institute of Microelectronics, Singapore
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Tsong Tan
(株)フジクラ光電子技術研究所
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Cole James
筑波大学システム情報工学科
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片山 良史
筑波大学産学リエゾン共同研究センタ
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The Doan
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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Mingbin Yu
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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Kwong Dim-Lee
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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三友 護
物質・材料研究機構
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浅野 健一郎
株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
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小川 弘晋
株式会社 フジクラ 光電子技術研究所
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小川 弘晋
光電子技術研究所
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藤田 大吾
光電子技術研究所
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瀧ヶ平 将人
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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Teo Hwee-gee
Institute Of Microelectronics Singapore
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Lim H.w.
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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Tan Y
(株)フジクラ光電子技術研究所
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Silalahi S.T.H.
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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Teo S.H.G.
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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Yu M
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
-
Lo G
シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所
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官 寧
(株)フジクラ
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山本 吉信
物質・材料研究機構
著作論文
- C-3-19 はんだ固定光ファイバアレイの偏心と応力
- Eu^付活ストロンチウム酸窒化アルミナケイ酸塩(サイアロン)の蛍光特性
- 窒化物系蛍光体の開発 (特集 NIMSナノセラミックスセンター:多機能性イノベイティブセラミックスの創製)
- C-4-22 青色励起型高演色白色LEDランプ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般講演)
- 白色LED用新規窒化物蛍光体の開発
- 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法 (光エレクトロニクス)
- サイアロン系新蛍光体とそれを用いた白色LEDの開発
- C-9-1 白色LEDの光学特性設計(C-9.電子ディスプレイ,エレクトロニクス2)
- 照明用白色LED
- サイアロン蛍光体を用いた白色LED
- フォトニック結晶導波路のためのモードフィールド変換器の設計と評価(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般(OFC報告))
- 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- C-3-119 新しい光減衰方法による VOA 複合化 2×2 高分子熱光学効果型光スイッチ
- C-3-13 ブラッググレーティングに適した偏波無依存型導波路の設計(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-81 シリコン・ナノフォトニックデバイス(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-30 フェムト秒レーザ加工による長周期ファイバグレーティング(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-9-2 高効率電球色LEDの開発(C-9.電子ディスプレイ,エレクトロニクス2)
- C-9-1 α-サイアロン蛍光体を用いた高効率電球色LED(C-9. 電子ディスプレイ, エレクトロニクス2)
- SC-5-1 フェムト秒レーザによる導波路形成(SC-5.新技術・新材料の光デバイスへの応用)
- C-3-87 集光フェムト秒レーザ光によるシリカガラス内部への低損失光導波路の作製
- C-3-77 フェムト秒レーザによる純粋シリカガラス内部への三次元光導波路の作製
- C-3-68 フェムト秒レーザによる純粋シリカガラス内部への光導波路の作製
- フッ素化ポリイミド熱光学効果光スイッチ
- フッ素化ポリイミド熱光学効果型光スイッチ
- フッ素化ポリイミド熱光学効果型光スイッチ
- C-3-71 高分子熱光学効果型2×2光スイッチ
- C-3-66 ポリマー導波路Y分岐TOスイッチのヒータ分割制御
- ポリマー導波路熱光学効果型光スイッチの数値解析
- C-3-72 偏波波長合分波アレイ導波路格子
- C-3-47 窒化シリコンブラッググレーティング導波路の多波長フィルタリング特性(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)