佐久間 健 | (株)フジクラ光電子技術研究所

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概要

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• (株)フジクラ光電子技術研究所の論文著者

関連著者

• 佐久間 健

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 佐久間 健

  株式会社フジクラ

• 佐久間 健

  富士通LSIソリューション株式会社

• 佐久間 健

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 細谷 英行

  (株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 細谷 英行

  株式会社フジクラ

• 広崎 尚登

  Nims

• 廣崎 尚登

  物質・材料研究機構

• 広崎 尚登

  独立行政法人物質・材料研究機構

• 佐久間 健

  (株)フジクラ光通信研究部

• 藤田 大吾

  株式会社 フジクラ 光電子技術研究所

• 廣崎 尚登

  独立行政法人物質・材料研究機構

• 木村 直樹

  株式会社フジクラ

• 木村 直樹

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 解 栄軍

  物材機構

• 解 栄軍

  物質・材料研究機構物質研究所

• 広崎 尚登

  物質・材料研究機構

• 福田 武司

  (株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 福田 武司

  埼玉大

• 小川 憲介

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 五井 一宏

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 五井 一宏

  株式会社フジクラ

• 小川 憲介

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 五井 一宏

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 福田 武司

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 石川 紫文

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 解 栄軍

  物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター窒化物粒子グループ

• 解 栄軍

  物質・材料研究機構ナノセラミックスセンター

• 解 栄軍

  物質・材料研究機構

• 小川 憲介

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 解 栄軍

  産総研

• Kwong Dim-Lee

  Institute of Microelectronics

• Tan Yong-tsong

  株式会社フジクラ

• Mingbin Yu

  Institute Of Microelectronics Singapore

• Kwong Dim-lee

  Institute Of Microelectronics Singapore

• 藤田 大吾

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 浅野 健一郎

  株式会社フジクラ

• 広崎 尚登

  (独)物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター

• Yu Ming-Bin

  Institute of Microelectronics

• Lo Guo-Qiang

  Institute of Microelectronics

• Lo Guo-qiang

  Institute Of Microelectronics Singapore

• 藤井 朋子

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 小川 憲介

  株式会社フジクラ

• 官 寧

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 浅野 健一郎

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• Tan Yong-tsong

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 広崎 尚登

  (独)物質・材料研究機構

• 平船 俊一郎

  株式会社フジクラ

• 解 栄軍

  (独)物質・材料研究機構 ナノセラミックスセンター

• 官 寧

  株式会社フジクラ

• 細谷 英行

  株式会社 フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部

• 佐久間 健

  株式会社 フジクラ 光電子技術研究所

• Tan Yong-Tsong

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 田中 太一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 田中 大一郎

  株式会社フジクラ

• 四方 朋子

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 関口 利貞

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 平船 俊一郎

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 関口 利貞

  フジクラ 光電子技研

• 解 栄軍

  (独)物質・材料研究機構

• 青木 孝文

  東北大学大学院情報科学研究科

• 青木 孝文

  東北大学 大学院情報科学研究科

• 玉木 康博

  株式会社フジクラ

• 伊藤 康一

  東北大学大学院情報科学研究科

• 鈴木 俊夫

  東京大学工学部

• 広崎 尚登

  物質・材料研究機構物質研究所

• 石井 裕

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 三友 護

  物質・材料研究機構物質研究所

• 山本 吉信

  物質・材料研究機構物質研究所

• 末廣 隆之

  物質・材料研究機構物質研究所

• 山本 吉信

  日産アーク

• 鈴木 俊夫

  東京大学工学系大学院

• 瀧ヶ平 将人

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 飯野 徹

  富士通LSIソリューション株式会社

• 解 栄軍

  独立行政法人 物質・材料研究機構

• 浅野 健一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 大道 浩児

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 官 寧

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 平船 俊一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 増子 幸一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• Tan Yong

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• Teo Selin

  Institute of Microelectronics

• Lo Guo-Qiaong

  Institute of Microelectronics

• 山田 重樹

  横浜市立大学国際総合科学研究科

• 大道 浩児

  株式会社 フジクラ 光電子技術研究所

• Doan My-The

  Institute of Microelectronics

• Teo Hwee-Gee

  Institute of Microelectronics, Singapore

• Tsong Tan

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• Cole James

  筑波大学システム情報工学科

• 片山 良史

  筑波大学産学リエゾン共同研究センタ

• The Doan

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Mingbin Yu

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Kwong Dim-Lee

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Aoki Takafumi

  Graduate School Of Information Sciences Tohoku University:(present Address)presto Jst.

• 三友 護

  物質・材料研究機構

• 佐久間 健

  東京大学

• 浅野 健一郎

  株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 小川 弘晋

  株式会社 フジクラ 光電子技術研究所

• 瀧ヶ平 将人

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• Teo Hwee-gee

  Institute Of Microelectronics Singapore

• Lim H.w.

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Tan Y

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• Silalahi S.T.H.

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Teo S.H.G.

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Yu M

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• Lo G

  シンガポールマイクロエレクトロニクス研究所

• 官 寧

  (株)フジクラ

• 山本 吉信

  物質・材料研究機構

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著作論文

• C-3-19 はんだ固定光ファイバアレイの偏心と応力
• Eu^付活ストロンチウム酸窒化アルミナケイ酸塩(サイアロン)の蛍光特性
• B-18-1 位相限定相関法を用いた指紋認証アルゴリズムのFPGA実装(B-18. バイオメトリクス・セキュリティ,一般セッション)
• 窒化物系蛍光体の開発 (特集 NIMSナノセラミックスセンター:多機能性イノベイティブセラミックスの創製)
• C-4-22 青色励起型高演色白色LEDランプ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般講演)
• 白色LED用新規窒化物蛍光体の開発
• サイアロン系新蛍光体とそれを用いた白色LEDの開発
• C-9-1 白色LEDの光学特性設計(C-9.電子ディスプレイ,エレクトロニクス2)
• 照明用白色LED
• サイアロン蛍光体を用いた白色LED
• フォトニック結晶導波路のためのモードフィールド変換器の設計と評価(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般(OFC報告))
• 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• C-3-119 新しい光減衰方法による VOA 複合化 2×2 高分子熱光学効果型光スイッチ
• C-3-13 ブラッググレーティングに適した偏波無依存型導波路の設計(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-81 シリコン・ナノフォトニックデバイス(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-30 フェムト秒レーザ加工による長周期ファイバグレーティング(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
• C-9-2 高効率電球色LEDの開発(C-9.電子ディスプレイ,エレクトロニクス2)
• C-9-1 α-サイアロン蛍光体を用いた高効率電球色LED(C-9. 電子ディスプレイ, エレクトロニクス2)
• SC-5-1 フェムト秒レーザによる導波路形成(SC-5.新技術・新材料の光デバイスへの応用)
• C-3-87 集光フェムト秒レーザ光によるシリカガラス内部への低損失光導波路の作製
• C-3-77 フェムト秒レーザによる純粋シリカガラス内部への三次元光導波路の作製
• C-3-68 フェムト秒レーザによる純粋シリカガラス内部への光導波路の作製
• フッ素化ポリイミド熱光学効果光スイッチ
• フッ素化ポリイミド熱光学効果型光スイッチ
• フッ素化ポリイミド熱光学効果型光スイッチ
• C-3-71 高分子熱光学効果型2×2光スイッチ
• C-3-66 ポリマー導波路Y分岐TOスイッチのヒータ分割制御
• ポリマー導波路熱光学効果型光スイッチの数値解析
• デンドライト成長条件を考慮した 18Cr-8Ni ステンレス鋼の急速凝固解析
• C-3-47 窒化シリコンブラッググレーティング導波路の多波長フィルタリング特性(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

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