65nm CMOSプロセスを用いた偏光計測イメージセンサの性能向上(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
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概要
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CMOSプロセスの微細化により光波長に対して十分に微細な構造が形成可能である.そこで我々は配線層を利用した微細メタルグリッドによる高消光比の実現を目的として,65nm CMOSプロセスを用いて偏光計測イメージセンサの設計・試作を行った.試作したセンサにより消光比2桁を達成したので報告する.
- 2010-09-20
著者
-
徳田 崇
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
太田 淳
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
野田 俊彦
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
宍戸 三四郎
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
太田 淳
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:jst Crest
-
太田 淳
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
田 崇
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:jst Crest
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大学
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:jst Crest
-
徳田 崇
大阪大学 大学院医学系研究科脳神経感覚器外科学(眼科学)講座
-
野田 俊彦
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:jst Crest
-
田 崇
奈良先端科学技術大学院大学
-
野田 俊彦
奈良先端科学技術大学
-
太田 淳
奈良先端科学技術大学院大
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大
-
宍戸 三四郎
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科
-
徳田 崇
奈良先端科学技術大学院大学
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大学, JST-CREST
-
笹川 清隆
奈良先端科学技術大学院大学:JST-CREST
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