20pTC-9 Si表面スパッタリング過程で生成されるSi^+,Si^<2+>に及ぼす微量残留酸素の効果(20pTC 放射線物理(2次粒子放出・クラスタービーム),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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概要
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- 2010-03-01
著者
-
八木 伸也
名大院工
-
八木 伸也
名古屋大学大字院工学研究科
-
八木 伸也
名大工
-
加藤 政彦
名大院工
-
曽田 一雄
名大院工
-
加藤 政彦
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
-
曽田 一雄
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
-
佐久間 靖博
名大院工
-
八木 伸也
名古屋大学工学研究科
-
八木 伸也
広大理
-
佐久間 靖博
名大エコトピア研
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