The Third International Conference on Synchrotron Radiation in Materials Science (SRMS-3)
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28aTF-2 電子ドープ系EuO薄膜の強磁性相転移と電子構造(28aTF 薄膜・バンド計算・理論,領域3(磁性,磁気共鳴))
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20aXA-8 強磁性半導体EuO薄膜の強磁性相転移による混成効果(20aXA 領域9,領域3合同 表面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
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中部シンクロトロン光利用施設の建設がスタート
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20pTC-9 Si表面スパッタリング過程で生成されるSi^+,Si^に及ぼす微量残留酸素の効果(20pTC 放射線物理(2次粒子放出・クラスタービーム),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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ホイスラー型熱電材料Fe_Ir_yV_Alの軟X線光電子分光
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22aPS-16 Fe基ホイスラー型合金のバルク電子構造(22aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
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26aYB-10 2次元準結晶Al-Co-NiとAl-Co-Cuの局所クラスターと遷移金属配置(準結晶,領域6,金属,超低温,超伝導・密度波)
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27pYK-3 Al-Co-Cu 2次元準結晶のクラスターモデルと電子構造(27pYK 準結晶,領域6(金属,超低温,超伝導・密度波))
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Rh(PVP)ナノ粒子表面に吸着した硫化ジメチルのXPSおよびNEXAFS解析
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24aRC-8 ホイスラー型Fe_V_Alの軟X線角度分解光電子分光(24aRC 光電子分光(超伝導・磁性・強相関),領域5(光物性))
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様々な形態の試料に対する軟X線領域XAFS測定システムの開発
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24aRD-5 電子-イオン同時計測による Si^のイオン化過程の研究(24aRD 放射線物理・原子分子放射線融合(2次粒子放出),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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20aTC-6 MeVイオンビームのガラスキャピラリによるガイド効果(20aTC 放射線物理・原子分子放射線融合(ガラスキャピラリ),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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25aZB-13 Si表面からスパッタされるSi^+, Si^収量に見られる同位体差(放射線物理(クラスター・2次粒子放出),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
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27pRA-11 Si(111)およびGe(111)表面からスパッタされる2次イオンのイオン化確率の速度依存性(27pRA 放射線物理(クラスター・二次粒子放出),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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21aZF-6 Ar^0衝突時にGeからスパッタされるGe^のエネルギー分布(21aZF 原子分子・放射線融合(ガラスキャピラリー,イオン-表面相互作用),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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23aRB-4 Sb-doped Ge表面スパッタリングにおける各種イオン生成過程に及ぼす酸素不純物の効果(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
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軟X線領域における大気圧条件XAFSシステム
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第3回広島放射光国際シンポジウム報告
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17aWD-3 Cu(100)表面上に吸着した(CH_3)_2S分子のSK吸収端NEXAFSによる吸着構造の研究
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22pEE-7 ガラスキャピラリを用いたMeVイオンビームのガイド効果(22pEE 領域1,領域2合同企画講演(キャピラリー),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
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