19aYA-2 各種希ガス原子によるSi表面スパッタリング過程で生成されるSi^<2+>,Si^+(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

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概要

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• 2005-08-19

著者

• 八木 伸也

  名大院工

• 加藤 政彦

  名大院工

• 曽田 一雄

  名大院工

• 曽田 一雄

  名古屋大学シンクロトロン光研究センター

• 佐久間 靖博

  名大院工

• 佐久間 靖博

  名大エコトピア研

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