プラズマCVD法によるSi-N:H膜成長

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概要

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• 静岡大学の論文

著者

• 山口 琢己

  松下電器産業株式会社半導体社

• 山口 琢己

  松下電器産業(株)

• 勝野 廣宣

  静岡大学電子工学研究所技術部

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