Metal-Oxide-Metal薄膜トンネル素子の酸化膜厚に関する考察
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概要
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The electron tunnelling effect through a thin insulating film between two metal electrodes has been investigated by mny authors. However, the experimental values of the current-voltage characteristics have not always coincided with the theoretical ones. In this paper, assuming that those differences are caused by the presence of dielectric film-thickness fluctuation and that the film-thickness is distributed in accordance with a modified Poisson distribution, a numerical analysis of theoretical current-voltage characteristics is carried out, and compared with the experimental characteristics for Al-Al_2O_3-Al structures.
- 山形大学の論文
- 1969-03-20
著者
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