薄膜トランジスタの動的圧電特性に関する実験
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
In this paper, it is emphasized that CdSe thin film transistor (TFT) may be used as a functional device having the faculty of both the electro-mechanical transducer of high sensitivity and the ordinary amplifier. Our results showed that the drain current level of TFT was modulated by the dynamic stress given on the glass substrate of TFT, using ultrasonic horn vibrating at the frequency of 20.0 KHz. The maximum drain current modulation observed was 81% at the vibration displacement ”d” of 8 microns at the tip of this horn impinging on the center of the substrate. Metal-SiO-CdSe-Metal thin film capacitor stressed dynamically showed sinusoida out put voltage of 4.2 mV by the piezoelectric effect of CdSe at ”d” of 7.4 microns. From these results, it was confirmed experimntally that the modulation mechanism of the drain current of the TFT was attributed to the variation ΔVo of gate-offset voltage Vo due to the applied dynamic stress.
- 山形大学の論文
- 1969-03-20
著者
関連論文
- 単源蒸着によるZnTe薄膜の形成とその性質
- 蒸着したTe-SiOの界面準位密度
- 陽極酸化アルミナを絶縁層としたセレン化カドミウム薄膜トランジスタの経時変化
- テルル薄膜トランジスタ
- 薄膜トランジスタの動的圧電特性に関する実験
- セレン化カドミウム薄膜トランジスタの製作条件III
- CdSe薄膜トランジスタの製作諸条件II
- 薄膜トランジスタの圧電特性
- CdSe薄膜トランジスタの特性に及ぼす製作諸条件I
- Al薄膜のプラズマ陽極酸化 : 表面物理, 薄膜
- 低温水晶振動子を用いる真空蒸着蒸気密度の測定
- 不均一膜厚をもつ薄い酸化アルミニウム薄膜を通じて流れるトンネル電流
- Metal-Oxide-Metal薄膜トンネル素子の酸化膜厚に関する考察
- アルミニウム蒸着薄膜のプラズマ陽極酸化
- タンタル蒸着膜の陽極酸化