熊谷 泰爾 | 山形大学工学部
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概要
関連著者
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熊谷 泰爾
山形大学工学部
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熊谷 泰爾
工学部電子工学科
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奥山 克郎
工学部電子工学科
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犬飼 清男
工学部電子工学科
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角田 健男
工学部電子工学科
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鈴木 義教
工学部電子工学科
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千葉 宗男
工学部電子工学科
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菅原 澄夫
工学部電子工学科
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相沢 慶二
工学部電子工学科
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木村 公美
工学部電子工学科
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牧野 文道
工学部電子工学科
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市岡 俊彦
沖電気工業
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福島 実
山形大・工
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熊谷 泰爾
山形大・工
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犬飼 清男
山形大・工
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市岡 俊彦
?沖電気工業基盤研究所
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権瓶 勝弘
?東芝那須工場
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鈴木 義政
工学部電子工学科[他]
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鈴木 義政
工学部電子工学科
-
鈴木 義政[他]
工学部電子工学科[他]
著作論文
- 単源蒸着によるZnTe薄膜の形成とその性質
- 蒸着したTe-SiOの界面準位密度
- 陽極酸化アルミナを絶縁層としたセレン化カドミウム薄膜トランジスタの経時変化
- テルル薄膜トランジスタ
- 薄膜トランジスタの動的圧電特性に関する実験
- セレン化カドミウム薄膜トランジスタの製作条件III
- CdSe薄膜トランジスタの製作諸条件II
- 薄膜トランジスタの圧電特性
- CdSe薄膜トランジスタの特性に及ぼす製作諸条件I
- Al薄膜のプラズマ陽極酸化 : 表面物理, 薄膜
- 低温水晶振動子を用いる真空蒸着蒸気密度の測定
- 不均一膜厚をもつ薄い酸化アルミニウム薄膜を通じて流れるトンネル電流
- Metal-Oxide-Metal薄膜トンネル素子の酸化膜厚に関する考察
- アルミニウム蒸着薄膜のプラズマ陽極酸化
- タンタル蒸着膜の陽極酸化