C-6-10 NiCrスパッタ膜の熱歪が温度抵抗特性TCRに及ぼす効果(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-09-07
著者
-
岩坪 聡
富山県工業技術センター
-
谷野 克巳
富山県工業技術センター
-
桑原 大輔
北陸電気工業株式会社
-
清水 孝晃
富山県工業技術センター
-
津幡 健
北陸電気工業株式会社
-
岩坪 聡
富山県工技セ 中研
-
津幡 健
北陸電気工業
関連論文
- 膜堆積中と後にArイオン衝撃を加えたFe薄膜の構造と磁気特性(薄膜)
- Arイオン衝撃処理によるイオンビームスパッタFe膜の構造と磁気特性変化(薄膜プロセス・材料,一般)
- ポリマーバッテリー用高分子固体電解質の開発
- はんだ付け用低温硬化型導電塗料の開発
- NiTi形状記憶合金を用いたアクチュエータの開発
- S1105-1-3 (111)面に配向したTiN膜の摩耗特性評価(表面改質とトライボロジー1)
- 電波干渉法による雪の複素誘電率推定(計測・探査)
- ポーラスSiの2次元発光像の解析
- NiTi形状記憶合金薄膜の組成と相変態
- RFマグネトロンスパッタ法とイオンビームスパッタ法にて作製されたNiCr薄膜の抵抗温度係数特性に及ぼす熱ひずみ効果(電子部品)
- NiCr薄膜抵抗体における熱歪と抵抗温度係数(TCR)特性(薄膜プロセス・材料, 一般)
- C-6-10 NiCrスパッタ膜の熱歪が温度抵抗特性TCRに及ぼす効果(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
- CVDダイヤモンド工具の切削性能 -ダイヤモンド膜質改善の効果-
- cBNコーティング工具の切削性能 -コーティング方法による違い-
- 厚膜集積化ガスセンサによる室内VOCの識別
- 室内空気汚染に対して高感度な酸化物半導体材料の探索
- イオンマイグレーションによるガラス基板上の銀デンドライトの成長とそのフラクタル次元
- 漆塗料の耐湿性と電子部品用保護塗料への応用
- イオンビームスパッタ法による窒素イオン衝撃を用いたFeN薄膜の作製 (薄膜)
- 窒素イオン衝撃によるFeN薄膜の作製
- イオンビームスパッタ法によるFe薄膜のAr照射効果
- 集積化VOCセンサの高感度化
- 電子回路用銅導電塗料の開発と諸性質
- ガスフロースパッタ法で作製されたZrO_2膜をバッファ層として用いたNiCr薄膜抵抗の抵抗温度係数(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-2 低剛性ZrO_2バッファ層を用いたNiCr抵抗膜のTCR特性(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- スパッタ法で作製されたNiCr薄膜の構造と抵抗温度係数(TCR)特性に及ぼす基板の表面あらさの影響(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-1 NiCr抵抗体膜のZrO_2バッファ層による抵抗温度係数TCR特性の変化(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- Arイオン衝撃処理によるイオンビームスパッタFe膜の構造と磁気特性変化
- デュアルイオンビームスパッタ法を用いたAu超薄膜の作製とその紫外域透明電極への応用
- デュアルイオンビームスパッタ法によるFe-N膜の作製とそのアニール特性
- IBS法におけるスパッタガス種の鉄薄膜特性に及ぼす影響
- イオンビー・ムスパッタ法における反跳Arの鉄薄膜特性に及ぼす影響
- イオンビームスパッタ法における反跳Arの鉄薄膜特性に及ぼす影響