岩坪 聡 | 富山県工業技術センター
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概要
関連著者
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岩坪 聡
富山県工業技術センター
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岩坪 聡
富山県工技セ 中研
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清水 孝晃
富山県工業技術センター
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谷野 克巳
富山県工業技術センター
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桑原 大輔
北陸電気工業株式会社
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高橋 隆一
富山大学工学部
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津幡 健
北陸電気工業株式会社
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津幡 健
北陸電気工業
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春山 義夫
富山県立大・工
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堀川 教世
富山県立大学 工学部機械システム工学科
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加藤 大貴
富山県立大学
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河村 新吾
YKK(株)
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石井 淳哉
YKK(株)
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春山 義夫
富山県大 工
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堀川 教世
富山県立大学工学部機械システム工学科
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河村 新吾
Ykk
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春山 義夫
富山県立大学工学部機械システム工学科
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春山 義夫
富山県立大
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河村 新吾
Ykk(株)工機技術本部
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堀川 教世
富山県立大
著作論文
- 膜堆積中と後にArイオン衝撃を加えたFe薄膜の構造と磁気特性(薄膜)
- Arイオン衝撃処理によるイオンビームスパッタFe膜の構造と磁気特性変化(薄膜プロセス・材料,一般)
- S1105-1-3 (111)面に配向したTiN膜の摩耗特性評価(表面改質とトライボロジー1)
- RFマグネトロンスパッタ法とイオンビームスパッタ法にて作製されたNiCr薄膜の抵抗温度係数特性に及ぼす熱ひずみ効果(電子部品)
- NiCr薄膜抵抗体における熱歪と抵抗温度係数(TCR)特性(薄膜プロセス・材料, 一般)
- C-6-10 NiCrスパッタ膜の熱歪が温度抵抗特性TCRに及ぼす効果(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
- イオンビームスパッタ法による窒素イオン衝撃を用いたFeN薄膜の作製 (薄膜)
- 窒素イオン衝撃によるFeN薄膜の作製
- イオンビームスパッタ法によるFe薄膜のAr照射効果
- ガスフロースパッタ法で作製されたZrO_2膜をバッファ層として用いたNiCr薄膜抵抗の抵抗温度係数(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-2 低剛性ZrO_2バッファ層を用いたNiCr抵抗膜のTCR特性(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- スパッタ法で作製されたNiCr薄膜の構造と抵抗温度係数(TCR)特性に及ぼす基板の表面あらさの影響(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-1 NiCr抵抗体膜のZrO_2バッファ層による抵抗温度係数TCR特性の変化(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- Arイオン衝撃処理によるイオンビームスパッタFe膜の構造と磁気特性変化
- デュアルイオンビームスパッタ法を用いたAu超薄膜の作製とその紫外域透明電極への応用
- デュアルイオンビームスパッタ法によるFe-N膜の作製とそのアニール特性
- IBS法におけるスパッタガス種の鉄薄膜特性に及ぼす影響
- イオンビー・ムスパッタ法における反跳Arの鉄薄膜特性に及ぼす影響
- イオンビームスパッタ法における反跳Arの鉄薄膜特性に及ぼす影響