Arイオン衝撃処理によるイオンビームスパッタFe膜の構造と磁気特性変化(薄膜プロセス・材料,一般)
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概要
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膜堆積中のArイオン衝撃は膜の構造を変え,膜の特性向上を図るための方法として非常に有効である.しかしながら,その膜構造に変化を与え特性向上に必要なエネルギーは,百eV近い値であるため,膜の初期成長段階でイオンと膜表面原子との衝突から膜界面での混合領域の発生を無視することができない.したがって,その技術を超薄膜の作製に応用することはできない.その混合領域の発生を抑えかつ優れた特性を有する超薄膜を作製するためには,膜そのものをArイオン衝撃のバリアとして利用する膜堆積後のイオン衝撃の手法が有効であると考えられる.そこで本研究では,デュアルイオンビームスパッタ法を用いて代表的な磁性材料であるFe膜を作製し,イオン衝撃をしない膜,膜堆積中にArイオン衝撃した膜と堆積後にイオン衝撃した膜の3種類の形態評価と,それらの膜の磁気特性の膜厚依存性について詳細に調べ,その効果を明らかにした.
- 2003-11-03
著者
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