シリコンマイクロマシニングによる機能集積型光スキャナの開発

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概要

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走査型光センサのマイクロ化を実現するために、シリコンマイクロマシニング技術とICプロセス技術を融合した、受光素子とピエゾ抵抗をシリコン光スキャナ振動子上に集積化した」哩2次元スキャナを開発した。本スキャナは、光ビームの2次元走査と、検出物体からの反射光の受光、および走査位置検出が可能であり、10×10×0.21mm3の形状で、30度以上の2次元光走査、0.5A爪の受光感度、および約1V/命g.の走査位置検出感度があり、走査式光センサの超小型化、高機能化が実現できる。
社団法人電子情報通信学会の論文
1995-10-20

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