パルスYAGレーザデポジションによるBN薄膜作製(II)
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概要
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立方晶窒化ボロン(cBN)薄膜最適作製プロセス開発を目的に,パルスレーザデポジション法を用いてBN薄膜の作製を行ってきた。本研究では,広い雰囲気条件下で成膜でき,化学量論的組成の薄膜が得易く,組成制御が容易で,安定性,再現性に優れ,高密着性薄膜堆積,低温プロセスの可能性を有するパルスレーザデポジション法の中でもハロゲンガスを必要とするエキシマレーザより操作性に優れ比較的安価なパルスYAGレーザの2次光(波長:532nm)を用いてSi(100)基板上にBN薄膜作製を行い,作製したBN薄膜特性を走査電子顕微鏡(SEM),オージェ電子分光分析およびフーリエ変換型赤外吸収スペクトル分析装置(FT-IR)等を用いて調べた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
武内 浩一
長崎県窯業技術センター
-
中園 彪
佐世保工業高等専門学校
-
馬場 恒明
長崎県工業技術センター
-
須田 義昭
佐世保工業高等専門学校
-
蛯原 健治
熊本大学 工学部
-
蛯原 健治
熊本大
-
蛯原 健治
熊本大学
-
馬場 恒明
長崎県工業センター
-
武内 浩一
長崎県窯業技術センター技術指導科
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