蛯原 健治 | 熊本大学 工学部
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概要
関連著者
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蛯原 健治
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大島 多美子
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(株)同仁化学研究所
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中園 彪
佐世保工業高等専門学校
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青木 振一
崇城大学
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野間 喜樹
熊本大学
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須田 義昭
佐世保高専
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山形 幸彦
熊本大
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青木 振一
熊本工業大学
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馬場 恒明
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丸田 和彦
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山口 淑久
くまもとテクノ産業財団
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熊本大学大学院自然科学研究科
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長崎窯技センター
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M.grishin Alexander
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光木 文秋
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アクロセンス株式会社
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インド工科大学
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立石 哲矢
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阿部 久雄
長崎県窯業技術センター・研究企画課
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武内 浩一
長崎県窯業技術センター技術指導科
著作論文
- パルスレーザデポジション法による有機発光薄膜の作製
- PLD法によるTiN成膜における高電圧パルス印加の プラズマプルームへの影響
- レーザプラズマプルームイオンインプランテーションによる機能性膜の作製
- パルスレーザアブレーション法による有機薄膜形成
- オゾンラジカルの酸化物薄膜高品質化への利用
- レーザアブレーションによるZnO薄膜作製
- レーザアブレーション法により作製されたZnO薄膜の光励起フォトニック特性
- アンモニア雰囲気ガスを用いたパルスレーザプロセスによるCNx薄膜の作製
- KrFエキシマレーザアブレーション法による酸化物及び炭素系薄膜作製
- パルスレーザデポジション法により作製したSiN膜の評価
- PLD法によるWC薄膜作製と分光分析
- 高周波無声放電を用いた活性ラジカル生成・分解技術の開発
- PLD法による巨大磁気抵抗La-Sr-Mn-O薄膜の作製と強誘電体Pb-Zr-Ti-Oとのヘテロ構造への応用
- KrFエキシマレーザを用いたグラファイトアブレーションの レーザプラズマプルーム特性
- 有限要素法によるパルスレーザー光照射グラファイトの熱解析
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによる CNx薄膜の作製
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによるCNx薄膜の作製
- 円筒型高周波無声放電オゾナイザのオゾン生成特性
- 高周波無声放電のマイクロ放電観測とオゾン生成効率の改善
- PLD法による薄膜形成
- レーザアブレーション法を用いた複合多層薄膜プロセス特性
- PLD法によるBN薄膜作製時の分光特性
- パルスYAGレーザデポジション法による窒化ボロン薄膜作製
- パルスYAGレーザデポジションによるBN薄膜作製(II)
- 高周波無声放電特性とオゾン生成
- ICCDによる高周波無声放電の観測
- 高周波無声放電を用いたオゾン生成とNOx分解
- 高周波無声放電による一酸化窒素生成特性
- 高周波放電による一酸化窒素の生体物質吸収特性
- PLD法により作製したPZT/YBCO/MgOヘテロ構造薄膜の分極反転機構
- PZT/YBCOヘテロ構造薄膜の強誘電特性の改善
- エキシマレーザアブレーション法によるPb-Zr-Ti-O強誘電体薄膜の作製