PLD法により作製したPZT/YBCO/MgOヘテロ構造薄膜の分極反転機構
スポンサーリンク
概要
著者
-
池上 知顯
熊本大学
-
池上 知顯
熊本大学大学院自然科学研究科
-
蛯原 健治
熊本大学 工学部
-
山形 幸彦
熊本大
-
山形 幸彦
熊本大学
-
池上 知顯
熊本大学工学部
-
蛯原 健二
熊本大学工学部
-
GRISHIN Alexander
スウェーデン王立工科大学
-
蛯原 健治
熊本大
-
山里 将朗
熊本大
-
M.grishin Alexander
スウェーデン王立工科大学
関連論文
- 交差した柱状欠陥を導入したYBCO薄膜の臨界電流密度の磁場角度依存性
- BaZrO_3, YSZを用いたYBCO擬似多層膜の磁束ピンニング特性
- 様々に傾いた柱状欠陥を含むYBCO薄膜の臨界電流密度の磁場角度依存性
- YBCO超伝導薄膜の輸送特性に対する柱状欠陥の影響
- 柱状欠陥を導入したYBa_2Cu_3O_y超伝導薄膜における電界-電流密度特性の磁場角度依存性
- パルスレーザデポジション法による有機発光薄膜の作製
- 真空中のレーザアブレーションにより生成されたカーボンプラズマプルームの計測
- PLD法によるTiN成膜における高電圧パルス印加の プラズマプルームへの影響
- レーザプラズマプルームイオンインプランテーションによる機能性膜の作製
- 高温超伝導体のピンニング・パラメータに対する柱状欠陥の影響
- 高周波およびマイクロ波プラズマ励起MOCVD法によるYBaCuO超電導薄膜の作製
- レーザー及び放電を用いた植物生育土壌・溶液の発光分光法による組成分析
- PLD法で作製したZnO/YBa_2Cu_3O_多層膜の磁束ピンニング特性
- PLD法で作製した ZnO/YBa2Cu3O7-δ 多層膜の磁束ピンニング特性
- 柱状欠陥を導入したYBCO薄膜におけるピンニングパラメータの磁場角度依存性
- 高温超伝導体におけるピンニングパラメータの重イオン照射量依存性(2)
- 高温超伝導体の臨界温度および磁束ピンニングに対する中性子照射効果
- 高温超伝導体の電流-電圧特性に対する柱状欠陥密度の影響
- 第2相物質を用いた YBa2Cu3O7-δ 多層膜の磁束ピンニング特性
- 分離型レーザアブレーション法開発と光発光薄膜作製
- パルスレーザアブレーション法による有機薄膜形成
- オゾンラジカルの酸化物薄膜高品質化への利用
- レーザアブレーションによるZnO薄膜作製
- レーザアブレーション法により作製されたZnO薄膜の光励起フォトニック特性
- アンモニア雰囲気ガスを用いたパルスレーザプロセスによるCNx薄膜の作製
- KrFエキシマレーザアブレーション法による酸化物及び炭素系薄膜作製
- I-058 圃場における蓄積画像の解析 : 明度値による天候判別と日射量推定(グラフィクス・画像,一般論文)
- 2P-20 光波マイクロホンによるパラメトリックスピーカーの放射音場(超音波と可聴音波)の計測(ポスターセッション)
- 重イオン照射した YBa2Cu3O7-δ 薄膜における柱状欠陥の印加磁場角度特性
- 高温超伝導体におけるピンニングパラメータの重イオン照射量依存性
- パルスレーザデポジション法により作製したSiN膜の評価
- PLD法によるWC薄膜作製と分光分析
- 高周波無声放電を用いた活性ラジカル生成・分解技術の開発
- 多針-平板電極型無声放電による一酸化窒素の生成特性
- 高周波無声放電における一酸化窒素とオゾン生成特性
- 5p-S-18 低エネルギーテータ・ピンチプラズマの磁場測定
- 光波マイクロホンによる沿面放電音の測定と解析
- 光波マイクロホンによる沿面放電音の測定と解析
- レーザー干渉法によるリレー接点アークの温度分布計測
- レーザーアブレーションで作製した単層カーボンナノチューブのラマン分光分析とガスセンサへの応用
- PLD法による巨大磁気抵抗La-Sr-Mn-O薄膜の作製と強誘電体Pb-Zr-Ti-Oとのヘテロ構造への応用
- 誘電体バリア放電によるオゾンの広範囲濃度制御と土壌処理への応用
- 高温超伝導体のピンニングパラメータに対する傾斜柱状欠陥の影響
- 高磁場下における高温超伝導体の電流-電圧特性に対する柱状欠陥の影響
- 高温超伝導体の電流-電圧特性に及ぼす柱状欠陥の影響
- 研究室紹介 熊本大学工学部電気システム工学科レーザナノプロセスグループ--パルスレーザ堆積(PLD)法による薄膜材料作製
- レーザアブレーションによるカーボンナノチューブの作製
- レーザアブレーション法によるカーボンナノチューブの作製
- KrFエキシマレーザを用いたグラファイトアブレーションの レーザプラズマプルーム特性
- 有限要素法によるパルスレーザー光照射グラファイトの熱解析
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによる CNx薄膜の作製
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによるCNx薄膜の作製
- 円筒型高周波無声放電オゾナイザのオゾン生成特性
- マイクロ波干渉法による重畳レーザプラズマの計測
- 干渉法によるレーザ絶縁破壊プラズマの計測
- レーザ生成プラズマの電子密度測定
- レーザによる光絶縁破壊プラズマの工学的測定
- 高周波無声放電のマイクロ放電観測とオゾン生成効率の改善
- PLD法による薄膜形成
- レーザアブレーション法を用いた複合多層薄膜プロセス特性
- PLD法によるBN薄膜作製時の分光特性
- パルスYAGレーザデポジション法による窒化ボロン薄膜作製
- パルスYAGレーザデポジションによるBN薄膜作製(II)
- パルスアークプラズマ放電によるYBaCuO超伝導薄膜作製に関する基礎実験
- ギャップスイッチより発生する無線雑音の特性
- パルスアークプラズマ光によるアモルファスシリコンの結晶化とその薄膜特性
- 衝撃大電流ア-クによる無線雑音のスペクトルとア-ク放電回数の影響(技術談話室)
- テータピンチ放電の特性に関する実験的研究
- 高周波無声放電特性とオゾン生成
- ICCDによる高周波無声放電の観測
- 放電プラズマ生成ラジカルの生化学への応用
- 高周波無声放電を用いたオゾン生成とNOx分解
- 高周波無声放電による一酸化窒素生成特性
- 高周波放電による一酸化窒素の生体物質吸収特性
- Ferroelectric and Colossal Magnetoresistive Properties of a PbZr_Ti_xO_3/La_Sr_xMnO_3 Heterostructure Film
- 薄膜デバイス作製へのレーザー応用
- PLD法により作製したPZT/YBCO/MgOヘテロ構造薄膜の分極反転機構
- 有限要素法によるパルスレ-ザ光照射アモルファスシリコン薄膜の熱解析
- PZT/YBCOヘテロ構造薄膜の強誘電特性の改善
- エキシマレーザアブレーション法によるPb-Zr-Ti-O強誘電体薄膜の作製
- パルスレーザー堆積法による高機能酸化物薄膜作製
- 酸素圧力のレーザアブレーション生成酸化物薄膜特性への影響
- 多層成膜法により作製したYBCO厚膜の特性
- YBa_2Cu_3O_超電導薄膜の抵抗と臨界電流密度の周波数依存性
- レーザー誘起ブレークダウン分光法による組成分析
- パルス電磁誘導法と高周波法によるメタン放電と薄膜析出
- 衝撃固化法ターゲットを用いたPLD法YBa2Cu3Oy薄膜の輸送特性
- パルスプラズマプロセスの特性とYBaCuO薄膜析出