高周波無声放電のマイクロ放電観測とオゾン生成効率の改善
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- パルスレーザデポジション法による有機発光薄膜の作製
- 真空中のレーザアブレーションにより生成されたカーボンプラズマプルームの計測
- PLD法によるTiN成膜における高電圧パルス印加の プラズマプルームへの影響
- レーザプラズマプルームイオンインプランテーションによる機能性膜の作製
- 高温超伝導体のピンニング・パラメータに対する柱状欠陥の影響
- 高周波およびマイクロ波プラズマ励起MOCVD法によるYBaCuO超電導薄膜の作製
- PLD法で作製したZnO/YBa_2Cu_3O_多層膜の磁束ピンニング特性
- PLD法で作製した ZnO/YBa2Cu3O7-δ 多層膜の磁束ピンニング特性
- 柱状欠陥を導入したYBCO薄膜におけるピンニングパラメータの磁場角度依存性
- 高温超伝導体におけるピンニングパラメータの重イオン照射量依存性(2)
- 高温超伝導体の臨界温度および磁束ピンニングに対する中性子照射効果
- 高温超伝導体の電流-電圧特性に対する柱状欠陥密度の影響
- 分離型レーザアブレーション法開発と光発光薄膜作製
- パルスレーザアブレーション法による有機薄膜形成
- オゾンラジカルの酸化物薄膜高品質化への利用
- レーザアブレーションによるZnO薄膜作製
- レーザアブレーション法により作製されたZnO薄膜の光励起フォトニック特性
- アンモニア雰囲気ガスを用いたパルスレーザプロセスによるCNx薄膜の作製
- KrFエキシマレーザアブレーション法による酸化物及び炭素系薄膜作製
- 重イオン照射した YBa2Cu3O7-δ 薄膜における柱状欠陥の印加磁場角度特性
- 高温超伝導体におけるピンニングパラメータの重イオン照射量依存性
- パルスレーザデポジション法により作製したSiN膜の評価
- PLD法によるWC薄膜作製と分光分析
- 高周波無声放電を用いた活性ラジカル生成・分解技術の開発
- 多針-平板電極型無声放電による一酸化窒素の生成特性
- 高周波無声放電における一酸化窒素とオゾン生成特性
- レーザーアブレーションで作製した単層カーボンナノチューブのラマン分光分析とガスセンサへの応用
- PLD法による巨大磁気抵抗La-Sr-Mn-O薄膜の作製と強誘電体Pb-Zr-Ti-Oとのヘテロ構造への応用
- 誘電体バリア放電によるオゾンの広範囲濃度制御と土壌処理への応用
- 高温超伝導体のピンニングパラメータに対する傾斜柱状欠陥の影響
- 高磁場下における高温超伝導体の電流-電圧特性に対する柱状欠陥の影響
- 高温超伝導体の電流-電圧特性に及ぼす柱状欠陥の影響
- レーザアブレーション法によるカーボンナノチューブの作製
- KrFエキシマレーザを用いたグラファイトアブレーションの レーザプラズマプルーム特性
- 有限要素法によるパルスレーザー光照射グラファイトの熱解析
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによる CNx薄膜の作製
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによるCNx薄膜の作製
- 円筒型高周波無声放電オゾナイザのオゾン生成特性
- マイクロ波干渉法による重畳レーザプラズマの計測
- 干渉法によるレーザ絶縁破壊プラズマの計測
- レーザ生成プラズマの電子密度測定
- レーザによる光絶縁破壊プラズマの工学的測定
- 高周波無声放電のマイクロ放電観測とオゾン生成効率の改善
- PLD法による薄膜形成
- レーザアブレーション法を用いた複合多層薄膜プロセス特性
- PLD法によるBN薄膜作製時の分光特性
- パルスYAGレーザデポジション法による窒化ボロン薄膜作製
- パルスYAGレーザデポジションによるBN薄膜作製(II)
- 高周波無声放電特性とオゾン生成
- ICCDによる高周波無声放電の観測
- 放電プラズマ生成ラジカルの生化学への応用
- 高周波無声放電を用いたオゾン生成とNOx分解
- 高周波無声放電による一酸化窒素生成特性
- 高周波放電による一酸化窒素の生体物質吸収特性
- 薄膜デバイス作製へのレーザー応用
- PLD法により作製したPZT/YBCO/MgOヘテロ構造薄膜の分極反転機構
- 有限要素法によるパルスレ-ザ光照射アモルファスシリコン薄膜の熱解析
- PZT/YBCOヘテロ構造薄膜の強誘電特性の改善
- エキシマレーザアブレーション法によるPb-Zr-Ti-O強誘電体薄膜の作製
- パルスレーザー堆積法による高機能酸化物薄膜作製
- 酸素圧力のレーザアブレーション生成酸化物薄膜特性への影響
- 多層成膜法により作製したYBCO厚膜の特性
- YBa_2Cu_3O_超電導薄膜の抵抗と臨界電流密度の周波数依存性
- パルス電磁誘導法と高周波法によるメタン放電と薄膜析出
- パルスプラズマプロセスの特性とYBaCuO薄膜析出