青木 振一 | 崇城大学/スウェーデン王立工科大学
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概要
関連著者
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青木 振一
崇城大学/スウェーデン王立工科大学
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蛯原 健治
熊本大学 工学部
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蛯原 健二
熊本大学工学部
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池上 知顯
熊本大学工学部
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蛯原 健治
熊本大学
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池上 知顯
熊本大学
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池上 知顯
熊本大学大学院自然科学研究科
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青木 振一
崇城大学
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青木 振一
熊本工業大学
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山形 幸彦
熊本大学
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阿部 久雄
長崎県窯業技術センター
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須田 義昭
佐世保高専
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大島 多美子
佐世保高専
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須田 義昭
佐世保工業高等専門学校
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蛯原 健治
熊本大学工学部
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大島 多美子
熊本大学工学部
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阿部 久雄
長崎県窯業技セ
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馬場 恒明
長崎工技センター
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阿部 久雄
長崎窯技センター
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青木 振一
熊本工大
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山形 幸彦
熊本大学工学部
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池上 知顕
熊本大学工学部
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蛯原 健治
熊本大
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青木 振一
沼津高専
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山里 将朗
熊本大
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馬場 恒明
長崎県工業センター
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黒木 啓光
熊本大学
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西原 裕貴
熊本大学
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山里 将朗
熊本大学工学部電気システム工学科
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黒木 啓光
熊本大学工学部電気システム工学科
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新貝 和史
熊本大学工学部電気システム工学科
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A M.
Sweden Royal Institute of Technology, Dept. of Condensed Matter Physics
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新貝 和史
熊本大
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大島 多美子
熊本大学
著作論文
- アンモニア雰囲気ガスを用いたパルスレーザプロセスによるCNx薄膜の作製
- パルスレーザデポジション法により作製したSiN膜の評価
- KrFエキシマレーザを用いたグラファイトアブレーションの レーザプラズマプルーム特性
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによる CNx薄膜の作製
- グラファイトターゲットのレーザーアブレーションによるCNx薄膜の作製
- レーザアブレーション法を用いた複合多層薄膜プロセス特性
- 薄膜デバイス作製へのレーザー応用