1,2-シクロヘキサンジオンジオキシムによるニッケル(II)の選択的沈殿分離とけい光X線分析への応用
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概要
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1,2-シクロヘキサンジオンジオキシム(ニオキシム)によるμgレベルのニッケル(II)の選択的沈殿分離条件を検討し,ニッケル(II)の沈殿分離けい光X線分析法に応用した,多量の鉄(III),コバルト(II),銅(II)が共存してもこれらは,酒石酸ナトリウムとCa-EDTAによって完全にマスキングすることができ,pH7.0〜9.5の範囲で数μgのニッケル(II)を定量的に沈殿させ回収できる.沈殿の完結に要する時間は15分で,5.00μgのニッケル(II)が最大100mlの溶液から定量的に沈殿する.この方法を土じょう及びコバルト試薬中のニッケル(II)の分析に応用した.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1979-04-05
著者
-
渡辺 寛人
(現)北海道大学工学部工業分析化学第二講座
-
渡辺 寛人
室蘭工業大学工業化学科
-
上田 孝志
室蘭工業大学工業化学科
-
矢部 勝昌
工業技術院北海道工業開発試験所
-
矢部 勝昌
北海道工業開発試験所
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