スパッタ法による窒化シリコン膜の作製(II) : 膜の構造特性
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概要
著者
-
日野 友明
北海道大学大学院工学研究科
-
広畑 優子
北海道大学大学院工学研究科
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橋場 正男
北大院工
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矢部 勝昌
北海道工業技術研究所
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島本 直伸
北海道大学工学部
-
橋場 正男
北海道大学工学部
-
山科 俊郎
北海道大学工学部
-
日野 友明
北海道大学
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矢部 勝昌
北海道工業開発試験所
-
山科 俊郎
北海道大学
-
橋場 正男
北海道大学工学科
-
島本 直伸
北海道大学 電子科学研究所
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