渡辺 寛人 | 室蘭工業大学工業化学科

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概要

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関連著者

• 渡辺 寛人

  室蘭工業大学工業化学科

• 渡辺 寛人

  (現)北海道大学工学部工業分析化学第二講座

• 石井 秀樹

  室蘭工業大学工業化学科

• 三浦 潤一郎

  福井大学工学部生物化学工学科

• 三浦 潤一郎

  福井大学工学部

• 大森 秀樹

  室蘭工業大学工業化学科

• 田中 裕晃

  空蘭工業大学工業化学科

• 田中 裕晃

  室蘭工業大学工業化学科

• 三浦 潤一郎

  室蘭工業大学工業化学科

• 室住 正世

  室蘭工業大学工学部工業化学科

• 渡辺 寛人

  北海道大学大学院工学研究科

• 菖蒲 明己

  室蘭工業大学工学部応用化学科(元)

• 安孫子 勤

  室蘭工大

• 渡辺 寛人

  北大 大学院

• 安孫子 勤

  室蘭工業大学

• 太刀川 貢平

  室蘭工業大学工業化学科

• 上田 孝志

  室蘭工業大学工業化学科

• 矢部 勝昌

  工業技術院北海道工業開発試験所

• 山口 信夫

  室蘭工業大学工業化学科

• 渡辺 寛人

  北海道大学工学部共通化学系

• 室住 正世

  室蘭工業大学工学部工業分析化学講座

• 矢部 勝昌

  北海道工業開発試験所

• 境 幸夫

  室蘭工業大学工業化学科

• 菖蒲 明己

  室蘭工業大学

• 室住 正世

  室蘭工業大学

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著作論文

• シス-[クロロテトラアンミンアクアコバルト (III)]硫酸塩の溶解度積の決定
• ドデシルベンゼンスルホン酸塩による銅(II)-α,β,γ,δ-テトラキス(1-メチルピリジニウム-4-イル)ポルフィン錯体のイオン対抽出
• 2-(2-チアゾリルアゾ)-5-ジメチルアミノフェノールと非イオン性界面活性剤を用いるニッケルの二波長吸光光度定量
• 1,2-シクロヘキサンジオンジオキシムによるニッケル(II)の選択的沈殿分離とけい光X線分析への応用
• 2-(8-キノリルアゾ)-4,5-ジフェニルイミダゾールと非イオン性界面活性剤を用いる亜鉛の吸光光度定量
• 陽イオン性及び非イオン性界面活性剤を用いるキシリジルブル-Iのマグネシウムキレートの抽出
• キシリジルブルーIと非イオン性界面活性剤を用いるマグネシウムの二波長吸光光度定量
• 非イオン性界面活性剤を溶媒とするニッケルの1-(2-チアゾリルアゾ)-2-ナフトールによる抽出
• ジチゾンと界面活性剤を用いる銅の二波長吸光光度定量
• 2-(2-チアゾリルアゾ)-5-ジメチルアミノフェノールとトリトンX-100を用いるニッケルの吸光光度定量
• 非イオン性界面活性剤溶液の相分離を利用するキレートの抽出,分離
• 1-(2-ピリジルアゾ)-2-ナフトールと界面活性剤を用いる亜鉛の吸光光度定量

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