マグネトロンスパッタ法によるホイスラー合金Co_2Cr_<0.6>Fe_<0.4>Al薄膜のエピタキシャル成長と磁気特性評価
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概要
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Epitaxial Co_2Cr_<0.6>Fe_<0.4>Al full-Heusler alloy thin films, featuring excellent surface flatness of less than 0.2nm rms in roughness, were grown on MgO(001) substrates by magnetron sputtering deposition at room temperature and subsequent annealing at temperatures ranging from 500 to 600℃. The ferromagnetic properties of the films in terms of Curie temperature and saturation magnetization were also improved by annealing process.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2005-09-01
著者
-
山本 眞史
北大情報科学
-
植村 哲也
北海道大学大学院情報科学研究科
-
松田 健一
北海道大学大学院情報科学研究科
-
丸亀 孝生
北海道大学大学院情報科学研究科情報エレクトロニクス専攻
-
山本 眞史
北海道大学大学院情報科学研究科情報エレクトロニクス専攻
-
植村 哲也
Nec基礎研究所、システムデバイス・基礎研究本部
-
山本 眞史
北海道大学大学院工学研究科
-
笠原 貴志
北海道大学大学院情報科学研究科情報エレクトロニクス専攻
-
丸亀 孝生
北海道大学 大学院情報科学研究科 情報エレクトロニクス専攻
-
植村 哲也
北大 大学院情報科学研究科
-
山本 眞史
北海道大学 大学院情報科学研究科
-
植村 哲也
北海道大学 大学院情報科学研究科
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