3a-NGH-23 NiSi_x(x=0,2/5,1/2,2/3,1/1,2/1,∞)からの共鳴型光電子放出

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 1981-09-14

著者

• 小林 啓介

  光共研

• 大門 寛

  物性研

• 村田 好正

  物性研

• 大門 寛

  阪大基礎工

• 石坂 彰利

  株式会社日立製作所中央研究所

• 石坂 彰利

  日立中研

• 小林 啓介

  物性研

関連論文

• 3p-RJ-2 Al-GaAs(110)界面の共鳴光電子放出のAl被覆度依存性
• 12p-Y-7 Al-GaAs(110)におけるAl2p内殻励起子と共鳴電子放出
• 30p-P-8 半導体の内殻励起領域における光電子分光
• 4a-E-4 K/Cu(100)の光電子分光
• 26p-O-3 ^1H(^N,αγ)^C核反応によるW(110)表面の水素吸着の測定
• 29a-S-11 ^1H(^N,αγ-1)^C核反応の共鳴エネルギー幅
• 27p-C-12 ^1H(^N, αγ_1)^C核反応によるW(001)表面の水素定量
• 2p-R-7 ^1H(^N,αγ)^C核反応によるW(100)表面の水素定量
• 7a-B-12 パルス電場変調によるサイクロトロン共鳴
• 31a-T-6 レーザーを用いた角度分解共鳴二光子光電子分光による表面研究の装置製作
• 3p-B4-4 Surface structure studies of NbMo(100)alloys
• 3a-C4-11 K/Si(001)の光電子分光II
• 3a-C4-7 Impurity effects of the SiO_2-Si(100)interface studied by Angle-Resolved UPS
• 29a-D-6 Si(001)の角度分解光電子分光
• 29a-D-5 Si(001)面からの二次電子放出
• 27a-D-9 Cu(001)-Kの角度分解光電子分光
• 2p-S-9 アモルファス酸化イリジウムのUPSスペクトルと電気化学的特性
• 2p-S-8 低速電子回折像の迅速測定II
• 1a-S-2 Si(001)2×1-Csの低温における構造相転移
• 2a-RJ-9 K/Cu(100)の角度分解型SOR光電子分光
• 13a-PS-11 物性研PGMを用いた分光研究
• 13a-PS-10 物性研SOR超高真空平面回折格子斜入射分光器の特性
• 3a-TC-16 GaAsの共鳴光電子放出
• 27a-SB-10 光電子分光法によるa-Si_xC_ : Hの価電子帯の検討 (III)
• 30p-P-7 NiySi(y=0, 0.5, 1, 1.5, 2, 2.5, 3)からの共鳴型光電子放出 II
• 30a-B-11 光電子分光法によるa-Si_xC_:Hの価電子帯の検討 (II)
• 31p-F-4 価電子状態と内殻励起
• 30a-F-13 a-Si_xC_:Hの光電子分光法による検討
• 2p-NM-4 Ni/Si界面電子構造-NiSiyの光電子分光
• 3a-NGH-23 NiSi_x(x=0,2/5,1/2,2/3,1/1,2/1,∞)からの共鳴型光電子放出
• 31a-J-5 Ni/Si界面のシンクロトロン放射による光電子分光
• 5p-DR-20 清浄Si-Al界面における結合状態(I)
• 1p-BE-12 AESによる清浄AL表面の吸着現象の検討
• 3a-E-12 MeVイオン散乱によるGaAs(001)表面構造
• 1a-S-3 Ge(111)の秩序-無秩序転移と不整合相
• 29a-L-7 MgO(001)からのLEED強度計算
• 30p-BPS-30 シングルドメインPt(001)再配列表面のNO吸着に伴なう構造緩和過程のLEEDによる研究III : シングルドメイン生成機構の考察とまとめ
• 24p-X-2 レーザー励起分子脱離
• 5a-PS-43 NOの吸着に伴うシングルドメインpt(001)再配列表面の、(20×5)から(1×1)への構造緩和過程のLEEDによる研究
• 2a-E-1 (1+1)共鳴多光子イオン化法による、pt(001)-NOの紫外レーザー刺激脱離の研究 II : 照射レーザー偏光依存性
• 2p-T-5 (1+1)共鳴多光子イオン化法による、Pt(100)-NOの紫外レーザー刺激脱離の研究I : 並進・回転エネルギー分布
• 2p-T-4 Pt(100)表面上に化学吸着したNOの紫外レーザー刺激脱離IV : 偏光・波長依存性
• 5a-W-1 Pt(100)表面上に化学吸着したNOの紫外レーザー刺激脱離III
• 5a-B4-4 Pt(100)表面上に化学吸着したNOの光刺激脱離を含む3光子過程によるNO^+の生成。
• 6a-L-11 低速電子の飛行時間法のエネルギー分析による団体表面の研究
• 測定精度の検討 : 電子回折による分子構造決定の精度シンポジウム
• 30p-D-3 Si(001)面へのLi吸着
• 31p-J-9 Si(100)面へのCs吸着
• 31a-E-10 CuFeS_2の光電子スペクトル
• 3a-NGH-21 酸化バナジウムの相変態反射スペクトル
• 4a-U-3 菊池パターンにおける振動励起
• 31p KA-10 MgO(001)面の低速電子エネルギー損失スペクトル
• 1a GB-6 低速電子線照射によるMgO (001) 面からの発光
• 5a-BK-7 MgO(001)の紫外光電子分光の回折効果
• 1a-BH-5 MgO(001)表面の電子状態 II
• 6p-L-8 RHEEDによるMgO(001)表面の研究
• 6a-H-11 低速電子線回折における菊地像の表面波共鳴III
• 低速電子回折における菊池像の固体表面物性研究への応用(「表面電子系の理論」報告,基研短期研究会)
• 5a-P-4 低速電子回折における菊池像の表面波共鳴II
• 5a-P-3 低速電子回折における菊池像の表面波共鳴I
• 12a-J-3 低速電子線による菊池像の測定と考察
• 13p-K-5 低中速電子線回折による菊池パターンの測定
• 11a-S-6 MgO(100)表面近傍の格子欠陥からの2次電子放出
• 28a-K-12 飛行時間型2次電子放出分光によるMgO(100)表面近傍の電子状態・格子振動の測定
• 2p-D-6 UHV飛行時間電子分光装置の開発
• 31a-L-3 飛行時間電子分光法によるNiO(100),MgO(l00)の表面格子振動の観測
• 2p-NM-9 飛行時間法電分光によるSi(100)酸化面の測定
• 1a-BF-13 低速電子分光(VPS,ELS)によるNi-Cr(1:1)合金(001)表面での測定
• 6a-L-9 真空紫外光電子分光法と電子のエネルギー損失スペクトルによるNi単結晶上の酸素吸着
• 6p-J-14 MgO(001)劈開面の真空紫外光電子分光
• 2p-Q-13 MgO(001)劈開面の極紫外光電子スペクトル
• 1p-S-9 Si(111)-Auの光電子回折
• 1p-S-3 Si(111)√×√-Gaの光電子回折
• 30p-D-8 Si(111)√×√-AlのSOR光による光電子回折
• 30p-D-7 Si(111)√×√-GaのSOR光による光電子回折
• 1p-KK-12 低速電子回折像の迅速測定I
• 2p-E-12 アルカリ金属/Cu(001)における構造相転移
• 4a-RJ-10 Si(111)2×1へのCs吸着に伴う表面電子状態の変化
• 2p-RJ-7 Cu(100)上K単原子層の整合・不整合転移
• 12p-Y-8 アルカリ原子/Cu(100)系のLEED観察
• 12p-Y-6 Cs/Si(111)2×1系の光電子スペクトル
• 29p-Y-4 S/Ni(100)からのSOR光による光電子回折
• 28a-E-4 紫外レーザー刺激による吸着分子の脱離機構の研究
• 27a-R-5 (1+1)共鳴多光子イオン化法による、Pt(001)-NOの紫外レーザー刺激脱離の研究III : 吸着状態依存性
• 31a-L-5 InSb(110)表面における内殻準位シフト
• 31a-L-11 Si(111)面の酸化過程の研究
• 2p-NM-10 Si(111)上の酸化膜のイオン衝撃による電子構造の変化
• 6a-C4-8 低速N_2^+イオンの解離性散乱II
• 29a-P-5 超低速イオンの吸着過程 II
• 27p-C-11 Cu(001)上でのN^+とN^+_2イオンの散乱角度分布
• 3a-S-4 Cu(100)上でのN^+_2低速イオンビームの散乱
• 28a-H-11 H(15N,αγ)12C核反応によるH/W(001)のH振動モードの測定(表面・界面)
• 31a-M2-8 シンクロトロン放射VUV,軟X線固体表面分光解析設備(表面・界面)
• 31a-M2-4 K/Si(001)の光電子分光(表面・界面)
• 28a-H-3 金属表面上の吸着種のレーザー誘起脱離(表面・界面)
• 30p-H-6 Si(001)の角度分解光電子分光 II(表面・界面)
• 31a-M2-5 Photoemission study of NaF and KF overlayers on GaAs surfaces.
• 1a-F4-4 Pt(100)上に化学吸着したNOからの紫外レーザー刺激NO+脱離(表面・界面)
• 27a-H-8 Si(001)清浄表面及び修飾表面からの二次電子放出(表面・界面)
• 2p-K3-7 低速N2+イオンの解離性散乱(表面・界面)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク