Surface Structure and Void Formation in Thin Film Growth : A Monte Carlo Simulation
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概要
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The structure of thin film deposited on metal surfaces and void formation in the film have been studied with use of a Monte Carlo method. We extended the solid-on-solid model so that vacancies are created during the growth of the film and performed simulations for a two-dimensional square lattice model. It is shown that the spatial distribution of vacancies is closely related to the surface structure and voids are created as small holes are filled with deposited atoms.
- 理論物理学刊行会の論文
- 2000-04-28
著者
-
金子 豊
京都大学大学院情報学研究科
-
樋渡 保秋
(財)豊田理化研
-
Kaneko Y
Sophia Univ. Tokyo
-
Murakami Tohru
Central Research Laboratory Uyemura Co. Ltd.
-
小原 敬士
Dep. Of Chemistry Fac. Of Sci. Ehime Univ.
-
HIWATARI Yasuaki
Department of Computational Science,Kanazawa University
-
Kaneko Y
Department Of Physics Faculty Of Science Tokyo Metropolitan University
-
KANAI Yasuyuki
The INstitute of Physical and Chemical Research(RIKEN)
-
KANEKO Yutaka
Department of Applied Analysis and Complex Dynamical Systems, Graduate School of Informatics, Kyoto
-
OHARA Katsuhiko
Central Research Laboratory, Uyemura Co., Ltd.
-
Hiwatari Yasuaki
Department Of Computational Science Kanazawa University
-
Hiwatari Yasuaki
Department Of Computational Science Faculty Of Science Kanazawa University
-
KANEKO Yutaka
Department of Applied Analysis and Complex Dynamical Systems, Graduate School of Informatics, Kyoto University
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