欠陥生成を取り入れた薄膜成長のモンテカルロシミュレーション : 孔埋め込みへの応用
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概要
著者
-
金子 豊
京都大学大学院情報学研究科
-
村上 透
上村工業(株)中央研究所
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樋渡 保秋
(財)豊田理化研
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樋渡 保秋
金沢大学理学部計算科学科
-
小原 勝彦
上村工業 中研
-
Kaneko Y
Sophia Univ. Tokyo
-
HIWATARI Yasuaki
Institute for Spectroscopic Study of Matter Faculty of Science, Kanagawa University
-
小原 勝彦
上村工業(株)中央研究所
-
Kaneko Y
Department Of Physics Faculty Of Science Tokyo Metropolitan University
-
村上 透
上村工業 中研
-
KANAI Yasuyuki
The INstitute of Physical and Chemical Research(RIKEN)
-
HIWATARI Yasuaki
Physics Department, Kanazawa University
-
Kanai Y
Atomic Phys. Lab. Riken
-
HIWATARI Yasuaki
Department of Computational Science, Faculty of Science, Kanazawa University
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