光電子融合システムに向けた高速・高密度シリコンフォトニクスデバイスの動向
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概要
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- 2011-04-28
著者
-
賣野 豊
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
-
藤方 潤一
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
荒川 泰彦
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:東京大学生産技術研究所
-
中村 隆宏
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
賣野 豊
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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中村 隆宏
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
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荒川 泰彦
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
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藤方 潤一
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
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