C-3-59 低損失多結晶Si光導波路と光変調器への応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
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- 2011-02-28
著者
-
赤川 武志
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
-
高橋 博之
沖電気工業(株)研究開発センターネットワークテクノロジーラボラトリ
-
高橋 博之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
堀川 剛
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
高橋 重樹
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 光・電子理工学教育研究センター
-
高橋 正志
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
藤方 潤一
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
平山 直紀
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
野口 将高
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
高橋 重樹
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
山本 宗継
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
赤川 武志
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
高橋 重樹
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
山本 宗継
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
野口 将高
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
藤方 潤一
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
堀川 剛
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:独立行政法人産業技術総合研究所
-
野口 将高
光電子融合基盤技術研究所
-
平山 直紀
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST):独立行政法人産業技術総合研究所(AIST)
-
高橋 正志
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST):独立行政法人産業技術総合研究所(AIST)
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