C-3-56 高密度シリコンフォトニクス回路向け集積プロセス技術(I)(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
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- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2012-08-28
著者
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高橋 博之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
賣野 豊
NECシステムプラットフォーム研究所
-
秋山 傑
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
堀川 剛
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
高橋 博之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
藤方 潤一
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
野口 将高
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
野口 将高
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
三浦 真
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
-
山田 浩治
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:nttマイクロシステムインテグレーション研究所
-
今井 雅彦
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
藤方 潤一
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
堀川 剛
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:独立行政法人産業技術総合研究所
-
賣野 豊
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
賣野 豊
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
埜口 良二
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
和田 一実
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
埜口 良二
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
山田 浩治
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
秋山 傑
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
和田 一実
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:東京大学
-
野口 将高
光電子融合基盤技術研究所
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