C-3-76 シリコンフォトニクスに向けた集積プロセスプラットフォーム技術(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
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- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2014-03-04
著者
-
高橋 正志
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
平山 直紀
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所
-
堀川 剛
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:独立行政法人産業技術総合研究所
-
岡野 誠
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
埜口 良二
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
斉藤 恵美子
PECST:PETRA
-
秋山 傑
PECST
-
三浦 真
PECST
-
清水 隆徳
PECST
-
羽鳥 伸明
PECST
-
高橋 博之
PECST
-
野口 将高
PECST
-
今井 雅彦
PECST
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中村 隆宏
PECST
-
清水 隆徳
PECST:PETRA
-
賣野 豊
PECST:PETRA
-
藤方 潤一
PECST:PETRA
-
山岸 雅司
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
-
斎藤 茂
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
-
平山 直紀
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST):独立行政法人産業技術総合研究所(AIST)
-
高橋 正志
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST):独立行政法人産業技術総合研究所(AIST)
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