ポリマ導波路内蔵光電気集積プラットフォームとそのモジュール応用(<特集>量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
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概要
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メトロ/アクセス系ネットワークにおいて、小型/低コスト光トランシーバを可能にするポリマ導波路内蔵光電気集積プラットフォームを開発した。このプラットフォームでは、低光損失でかつ低誘電率/低誘電損失の厚膜ポリマ樹脂と電気配線を積層した構造を用いることにより、共通基板上に光デバイスとLSIの搭載が可能で、部品数と実装工数の削減が図れる。このプラットフォームの基本性能評価を行い、波長1.3/1.55μmでモジュールとして良好な光導波路特性と10Gbit/s以上の高速伝送に適用できる電気特性を確認した。さらにこのプラットフォームを一芯双方向光トランシーバに適用し、小型/低コスト化が可能なことを確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-06-25
著者
-
清水 隆徳
日本電気株式会社システムプラットフォーム研究所
-
杉本 宝
NECシステムデバイス・基礎研究本部
-
清水 隆徳
Necシステムプラットフォーム研究所
-
秋本 裕二
NEC R&Dサポートセンター
-
曽根 純悦
NEC R&Dサポートセンター
-
賣野 豊
NECシステムプラットフォーム研究所
-
杉本 宝
Necシステムプラットフォーム研究所
-
秋本 裕二
Nec R&dサポートセンター
-
曽根 純悦
Nec R&dサポートセンター
-
清水 隆徳
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
清水 隆徳
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:光電子融合基盤技術研究所
-
賣野 豊
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
清水 隆徳
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
清水 隆徳
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトにクス・エケクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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