複数構造領域を使用したSi光導波路干渉器による偏波・温度変動・幅誤差耐性の検討

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概要

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• 2011-12-09

著者

• 岡山 秀彰

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 高橋 博之

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 志村 大輔

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)

• 八重樫 浩樹

  フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 高橋 博之

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構沖電気工業株式会社研究開発センタ

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